二手 ULTRATECH Star 100 #9252513 待售

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ID: 9252513
Stepper Illumination field size: 39 x 18 mm Light pipe type: Diffuser Field size: 30 x 18 mm MVS Type: Patmax Series 2 bridge Flipper less Reticle size: 3" x 5" PC With windows 2000 Platform Air probe type: Round Edge switch: Air probe Theta stage: Pop-up Wafer handler: Round chuck, 4" Autoloader, 4" Options: Chuck and autoloader, 5" and 6" Upgraded to automation robot system 2006 vintage.
ULTRATECH Star 100晶圆步进器是一种先进的光刻工具,用于在半导体晶圆上对大小结构进行制图。它是一种顶级步进器,能够产生高分辨率、高精度的图像,同时在整个晶片上保持高度精确的聚焦和对准。ULTRATECH STAR100采用了一种称为KrF浸没光刻的高级光学照明模式。该技术采用深层紫外线光源和晶圆与照明区域之间的化学反应,由于KrF光源的聚焦深度较大,斑点尺寸小,导致高分辨率。Star 100的最先进的双轴投影光学元件允许在具有严格公差要求的成像特性时进行极微调。此外,投影光学器件提供高数值孔径,连同成像设备的亚微米分辨率,确保投影的光刻图桉质量最高。STAR100的超精确阶段进一步提高了成像能力。此阶段结合了高分辨率运动控制系统和微调索引驱动器,以实现一流的对齐精度。该级同时具有x轴和y轴控制,达到0.5微米的定位精度。对于基板控制,ULTRATECH Star 100采用微晶金刚石卡盘单元。这台机器消除了边缘效应,并确保了晶片之间的温度分布均匀,以实现最佳的模式传递。ULTRATECH STAR 100的源/曝光控制功能可实现卓越的可重复性和可靠性。它有一系列可调节的Tool 6参数,从激光功率到快门速度,允许复杂的微调曝光过程。最后,Star 100配备了复杂的故障检测和校正资产,可以在制造过程中出现错误之前检测潜在问题。此模型连续扫描晶片并监视参数是否存在差异,如果存在差异,则可以激活报警或自动调整工艺参数。
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