二手 ULTRATECH Unity AP300 #9128099 待售
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ID: 9128099
晶圆大小: 12"
优质的: 2009
Stepper, 12"
Resolution: 2 um Line / Space
Field size: 34 x 26 mm
Wave length: Ghi-line
Illumination:
Strength of exposure: 2,063 mW / cm² (Ghi-line)
Exposure accuracy:
Shutter accuracy:
0.28% (250 mJ)
0.68% (2500 mJ)
Illuminator condition: 3.22%
SSF Focus
Lens resolution: 2.0 um L/S
DOF Lens: ±7.5 um
Image plane inclination:
Wafer chuck flatness:
X: -0.0179 um/mm
Y: 0.0804 um/mm
Alignment accuracy:
Overlay accuracy:
X: 0.909 um
Y: 3.179 um (3-Sigma)
Wafer place position accuracy:
X: 98.343 um
Y: 83.691 um (3-Sigma)
Reticle position test:
X: 0.480 um
Y: 0.624 um (Sigma)
TCL Test
Benchmark: 115.1 + 22 um (L: 0 um, B: -7.0 um, R: 0.8 um)
Data back up: Critical backup
2009 vintage.
ULTRATECH Unity AP300晶片步进器是用于生产半导体晶片的最先进的精密光刻设备。步进器具有先进的光学和多剂量能力，能够同时成像多达三个晶片。该系统旨在为暴露和未暴露的晶圆表面提供高质量的成像。该AP300配备了Opti-Scan Robotics单元，可提供机器内晶片的精确且可重复的对准和移动。机器还能够在两个摄像头之间切换，允许用户同时执行上下表面成像。晶片步进器由高精度、多轴级供电，提供空气悬浮和晶片与环境隔离，以及最佳运动控制。该工具还具有高端电机，具有精确和可重复的速度控制，确保晶片在光刻过程中的精确运动和位置。AP300晶片步进器利用专有的剂量控制和暴露资产,在剂量传递和模式写入速度方面提供无与伦比的稳定性和精确度。该模型还提供了使用校准均匀面罩的高级光学校正，从而提高了图像质量和更精确的光刻。该AP300还利用先进的多层工艺（MLP）设备来监控晶圆在步骤和重复过程中的进度。这有助于最大限度地减少误配，并确保正确的剂量应用于整个晶片上的每个模具。最后,该AP300具有强大的安全功能,旨在确保始终安全运行。步进器配有机柜存储模块,可确保系统不受外部振动、灰尘和电动势的影响。安全功能还包括紧急停止按钮，以保护用户免受伤害。
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