二手 E+H METROLOGY MX 2012-RA-1L #9311190 待售

E+H METROLOGY E+H METROLOGY MX 2012-RA-1L是先进的晶圆测试和计量设备。它使半导体制造商能够手动或自动测量晶片基板,确保达到临界尺寸和位置公差。该系统具有自动校准级,可实现准确、一致的校准和测量性能。该装置还配备了MEI-CMOS（微型机和电气检测）机器，用于无损检测，确保任何测量范围的信噪比都很高。这使得每个测量之间的结果具有可比性并且非常精确。该工具可以测量各种晶圆，从工业IGZO晶圆到微机电资产（MEMS）晶圆。测量包括临界尺寸、薄膜测量、迭加测量、宏缺陷测量和电阻测试。此外，该模型还具有高精度扫描电子显微镜（SEM）的特点，能够识别和精确测量各种缺陷。为了检测非常小的缺陷,SEM还具有高达50,000倍的高放大倍率。对于晶片或其他半导体基板等大型基板，设备还可以使用旋转盘抛光器进行轮廓测量。这为大曲面的测量和分析提供了高精度和准确性。除了各种测量之外，该系统还提供分析和报告能力。它可以创建高度详细的报告,其中包括所有必要的数据,以便进行可追踪性和可追踪性分析以进行审计。该单元还具有各种数据管理功能,例如能够将数据存储在可移动介质上,以及将数据从计算机远程传输到外部计算机,或者将数据传输到Internet和从Internet传输。总体而言，E+H METROLOGY MX 2012-RA-1L是一种先进的、高度精确的晶圆测试和计量工具。它具有多种功能,可实现准确的测量,并为审计目的提供数据管理和报告功能。该资产是半导体制造和测试的重要工具。