二手 E+H METROLOGY MX 203-6-33 #9360725 待售
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ID: 9360725
晶圆大小: 4"-6"
优质的: 2008
Wafer measurement system, 4"-6"
Power supply: 240 VAC
2008 vintage.
E+H METROLOGY E+H METROLOGY MX 203-6-33是一种强大可靠的晶圆测试和计量设备。它旨在在半导体和特种工艺应用中提供高精度的测量和分析。该系统具有六轴机器人化的舞台，能够在1200 µm的范围内快速精确地移动。该机器人可在几分钟内扫描晶圆并成像。它在扫描时使用闭环伺服单元来保持其位置，并且能够重复多模具扫描。MX 203-6-33还具有高分辨率的数字成像机。该成像工具能够捕获分辨率高达1500万像素的每个模具的图像。数字成像资产还提供了强大的图像分析工具。这些包括对比度和边缘检测、像素强度分析、形状识别和模式识别。除了成像，E+H METROLOGY MX 203-6-33可以进行多种晶圆表征测量。这些包括电阻率、电容和泄漏等电气参数，以及表面剖面图和检查等物理参数。该模型能够测量晶片表面上的小缺陷，尺寸可降至1微米。MX 203-6-33还提供了一个软件套件来控制设备行为和分析测量结果。其中包括一些高级功能,如多站点内存、远程控制和趋势分析。该系统的用户友好界面使得设置测量和查看结果变得容易，成为研发实验室的理想选择。总而言之，E+H METROLOGY E+H METROLOGY MX 203-6-33是一个优秀可靠的晶圆测试和计量单元。它提供了广泛的功能，使其适合各种不同的任务。它具有强大的功能和易用性,是任何希望提高晶圆测试和计量能力的设施的理想选择。
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