二手 E+H METROLOGY MX 204-8-37-Q #293813904 待售
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ID: 293813904
晶圆大小: 6"-8"
Wafer measurement systems, 6"-8"
Capacitive sensors
(2) Heavy steel plates
(3) Resting pins for measurement
Vacuum chuck
Maximum measuring time per wafer: 5 Seconds
Radio Sector 232 Communication (RS-232) interface
Operating System (OS): Windows NT 4.0
PC.
E+H METROLOGY E+H METROLOGY MX 204-8-37-Q是一种先进的非接触式3 D计量系统,非常适合晶圆测试和计量。它是一种超高分辨率的3D计量仪器,利用激光扫描共焦技术提供高度精确的结果。该仪器设计用于测量纳米范围内结构和表面的特征,其精度非常高。E+H METROLOGY MX 204-8-37-Q结合了硬件和软件,能够以极高的分辨率扫描整个曲面。仪器能够测量厚度、表面轮廓和粗糙度,以及高分辨率的单点测量。它还可以检测夹杂物和毛孔等不规则现象,以及以极高的精度和精确度测量晶圆图样上的图样。E+H METROLOGY E+H METROLOGY MX 204-8-37-Q有多个定位装置。其中包括在扫描头下方的电动X轴、用于扫描500 mm的Y级以及能够扫描高于Y级的大型结构的Z级。再者,该仪器具有光学变焦镜头和高分辨率视频显微镜,使其能够以极高的精度扫描非常详细的特征。此外,E+H METROLOGY MX 204-8-37-Q具有自动聚焦功能,可确保在任何深度进行可靠和稳定的测量。该仪器还提供高度用户友好的软件,使用户能够根据自己的需要快速、轻松地设置和定制系统。此外,该软件还提供强大的分析功能,允许用户获取有关曲面和结构条件的详细信息。总体而言,E+H计量E+H计量MX 204-8-37-Q是晶圆和其他非常小的复杂结构和曲面的非接触3D计量的绝佳选择。其高分辨率扫描功能,加上自动化聚焦功能和强大的软件,使其成为晶圆测试和计量的最佳选择之一。
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