二手 E+H METROLOGY MX 204-8-37-Q #9234107 待售
网址复制成功!
单击可缩放
ID: 9234107
优质的: 2005
Wafer measurement system
Square / Pseudo-square: 125-156 mm
Gauge type: MX 204-8-25-q
Thickness range: 200 - 600 μm
Real: 180 - 600 μm
CE Marked
2005 vintage.
E+H METROLOGY E+H METROLOGY MX 204-8-37-Q是一种先进的晶圆测试和计量设备,用于大型晶圆的检验和表征。该平台使用户能够快速、准确地检测和分析晶圆上的缺陷或污染物以及底层接口的属性。该系统包括内置光学显微镜和集成的超简洁测量技术,允许各种晶圆尺寸的精确测量。光学单元采用自动对焦机和自动校准,可实现准确可靠的读数。它还可以测量高达100倍的放大倍率,使其适用于所有类型的晶片。数据是通过数据采集模块收集的,该模块可以与机器视觉系统、计量解决方桉和数字成像系统等多种设备连接。测量技术提供精确的结果,圆度精度为0.02 µm,定位精度为0.2 µm。此外,此工具还可以处理任意大小的多个样品,包括尺寸可达300 mm的晶片,从而能够精确测量和分析最小的晶片。MX 204-8-37-Q包括用户友好的界面和易于收集数据的直观资产。通过GUI,用户可以监控数据收集过程,调整参数。它与几乎所有的计算机系统兼容,包括Windows、Mac OS X和Linux。该型号还支持USB和以太网连接,使用户可以轻松地与仪器和网络上的其他仪器进行通信。E+H METROLOGY E+H METROLOGY MX 204-8-37-Q的强大性能和快速分析能力使其成为任何晶圆测试和计量环境的理想选择。该设备易于集成到现有的测量网络中,并为可靠的晶圆级测量和表征提供可靠的数据。
还没有评论