二手 E+H METROLOGY MX 204-8-37-Q #9234108 待售
网址复制成功!
单击可缩放
ID: 9234108
优质的: 2006
Wafer measurement system
Square / Pseudo-square: 125-156 mm
Gauge type: MX 204-8-25-q
Thickness range: 200 - 600 μm
Real: 180 - 600 μm
CE Marked
2006 vintage.
E+H METROLOGY E+H METROLOGY MX 204-8-37-Q是一种功能强大的自动化晶圆测试和计量设备,旨在提供精确的测量,同时提供灵活性以符合要求最苛刻的应用程序。该系统的核心是一个先进的8通道、37通道综合测量站。该单元通过可靠的基于CCD的光学机器提供高精度和可靠性。MX 204-8-37-Q利用快速扫描和过程控制算法提供了卓越的可重复性。该机器可用于表征各种设备结构的各种参数,如临界尺寸、平整度和CD均匀度。该工具还能有效测量先进设备的拓扑结构,实现工艺优化,提高晶圆产量。其50kHz激光扫描提供了前所未有的快速跟踪水平,具有非常宽的动态范围和非常低的散粒噪声水平。该资产非常适合扫描电子显微镜、AFM/SPM和细胞内粒子(PIC)二次电子成像等应用。E+H METROLOGY MX 204-8-37-Q还具有支持多种晶圆测试和测量方法(例如动态非接触传感、扫描和成像)的多模式操作。此外,该模型还提供了一系列简化操作的选项,提供了广泛的功能,允许用户根据需要配置设备。该系统利用先进的技术提供了最高的效率、准确性、精确度和可重复性。MX 204-8-37-Q配备了直观的用户界面,使用户可以轻松地控制单元,而无需任何机器编程方面的专业知识。它利用LabVIEW软件为用户设置工具提供了高度的灵活性和效率。最后,E+H METROLOGY E+H METROLOGY MX 204-8-37-Q是一种自动化晶圆测试和计量资产,具有极好的精度和准确性,具有高度的灵活性,使用户能够根据自己的独特需求配置模型。其50kHz的激光扫描技术、动态非接触传感和成像模式提供了高效可靠的测量解决方桉。用户友好的界面和直观的软件进一步确保了快速、轻松的设置和操作。
还没有评论