二手 E+H METROLOGY MX 204-8-37-Q #9234109 待售

ID: 9234109
优质的: 2007
Wafer measurement system Square / Pseudo-square: 125-156 mm Gauge type: MX 204-8-25-q Thickness range: 200 - 600 μm Real: 180 - 600 μm CE Marked 2007 vintage.
E+H METROLOGY E+H METROLOGY MX 204-8-37-Q是一种全自动和独立的晶片测试和计量设备,用于快速分析晶片和其他基材。这一创新系统利用专门的硬件和软件来测量晶片基板的地形、厚度、蚀刻深度、电学特性和其他特性,具有无与伦比的准确性和可重复性。该单元由多轴龙门机组成,该机支持针对各种晶圆材料和应用而量身定制的一系列测量工具。压力和温度控制的气柜提供了一个稳定和热控制的测试环境,确保多种测量的准确性和可重复性不受环境条件的影响。该工具可以使用光学剖面仪、干涉仪和电气检查系统等工具阵列执行自动特征识别(AFR)和其他高级测量。AFR基于数字成像和算法自动检测表面特征的变化,可测量包括表面粗糙度、蚀刻深度、厚度和各种电性能在内的50多个参数。软件包能够处理从测量前设置到处理后和报告的整个测量过程。它可以自动从多个工具获取、存储和处理数据,并分析数据以检测趋势。这样就可以快速识别生产问题,从而无需繁琐的手动审查和分析。该资产及其软件的人体工程学设计使设置、操作和维护变得快速、容易。电机驱动的晶圆处理模型还能够对每小时约500个晶圆进行快速测量。E+H METROLOGY MX 204-8-37-Q是需要高精度、可重复性能进行测试的半导体器件制造商的理想解决方桉。它也具有成本效益,使得它对任何生产环境都是巨大的投资。
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