二手 E+H METROLOGY MX 204-8-37-Q #9234110 待售

E+H METROLOGY E+H METROLOGY MX 204-8-37-Q是利用先进技术构建的晶圆测试和计量设备,使其能够测量和分析半导体工业中的复杂晶圆和其他组件。该系统设计用于薄膜和复杂表面测量所需的一致、高精度和精确的测量。E+H METROLOGY MX 204-8-37-Q单元采用共焦测量技术，精确测量了三维表面地形特征，如垂直悬垂和步高变化，精度和分辨率都很高。该机器能够测量直径达200毫米的晶片，并具有快速释放晶片支架，可快速可靠地更换基材。此外,测量站还可以满足多个目标和探测配置的利用,以满足特定的测试要求。该工具还具有专门为快速准确测量平面和台阶曲面而设计的旋转级。它配备了各种各样的光学系统、可选的微操作阶段和复杂的模式识别资产，以自动识别、选择和确定具体特征和测量的大小。该模型包括一个高速图像采集模块以及连接到功能强大的PC的高端摄像机，允许用户以多种格式捕获和存储高分辨率数据，从而便于传输和分析结果。它还集成了一个前沿的程序界面，简化了创建动态和交互式用户界面来处理精确测量的任务。总体而言，E+H计量E+H计量MX 204-8-37-Q是一种有效的晶圆测试和计量设备，能够提供高精度、高精度、高精度的重复测量。该系统具有广泛的特点和先进的技术，可以为任何晶圆测试和计量应用提供理想的解决方桉。