二手 E+H METROLOGY MX 204-8-37-Q #9234111 待售

ID: 9234111
优质的: 2007
Wafer measurement system Square / Pseudo-square: 125-156 mm Gauge type: MX 204-8-25-q Thickness range: 200 - 600 μm Real: 180 - 600 μm CE Marked 2007 vintage.
E+H METROLOGY E+H METROLOGY MX 204-8-37-Q是一种晶圆测试和计量设备,旨在提供高速和精确的测量数据。该系统提供了先进的光刻能力,能够以快速和自动化的方法测量精确的蚀刻深度和尺寸。完整单元包括一台MX204可配置晶片表征机(CWC)、一台集成测试台、多种自动化技术以及构成完整计量包的各种附件和连接器。通常,该工具以高速运行,能够在不到12秒的时间内进行采样测量。配备高分辨率光学显微镜,提供1.5um的最大视野,0.5um的分辨率, 以及一种集成的晶圆处理设备,即使在高达40度的温度下也可以对样品进行分析。光学显微镜能够精确测量晶圆的平坦度, 厚度和缺陷大小,以便监控工艺参数。此外,它还可以实时对样本进行成像,并提供多达20个图像的实时显示。此外,模型中包括的自动化技术能够提供全自动检查过程,包括缺陷和蚀刻深度/尺寸测量。此外,该设备还集成了一个可编程逻辑控制器(PLC)以适应快速的环境变化和控制外围设备的串行链路。该系统还支持各种测试和计量配方,包括汽车和光学要求。此外,该设备高度可配置以满足各种用户的需求。它包括E+H MAGSYS METROLOGY软件,高效计量和缺陷分类的强大平台,以及用于高速测试样品的探测机。这台机器还与广泛的第三方测量系统兼容,包括Teradyne和KLA。最后,该工具可以通过串行链路和以太网连接连接到计算机。资产还附带各种配件,如晶圆边缘检测平台和检测平台。此外,该型号还提供安装和服务包,以便于快速安装和启动以及校准和维护。
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