二手 E+H METROLOGY MX203-6 #9198431 待售

ID: 9198431
晶圆大小: 6"
Wafer geometry system, 6".
E+H计量E+H计量MX203-6晶圆测试和计量设备是测量集成电路芯片轮廓和尺寸的前沿、高精度系统。该单元利用一个专有的光学扩音器在芯片尺寸上提供高度的精度。光学器件可手动调节,可定制芯片尺寸选项,包括较大的晶片区域。该机器具有晶片剖面计量的两阶段计量工作流程,第一步是测量晶片相对于芯片尺寸的边界,以及准确表征晶片的拓扑特征。工作流程的第二步是专门描述芯片的各个电路及其各自的尺寸,从而提供尽可能高的精度级别。E+H METROLOGY MX 203-6利用先进的光学感测工具来测量晶片的轮廓。该资产能够从晶片区域内的任何点检测芯片轮廓的角度、宽度、深度和高度,使其成为大型晶片区域的理想模型。此外,该设备还将其高精度光学器件与高级算法相结合,以准确检测芯片的层、尺寸和形状。利用先进的光腔技术,MX203-6晶圆测试和计量系统,提供精确度几纳米。利用这项技术,该装置甚至可以检测到晶圆任一角的单个纳米变化。这使得机器在检查缺陷或任何其他难以通过常规技术识别的不规则性方面极为有用。该工具还配备了多种自动化功能,如自动放大和重新聚焦,以及多种可用于测量芯片配置文件的图像分析工具。此外,资产还具有方便的自我校准机制,可简化设置过程。E+H METROLOGY MX 203-6晶片测试和计量模型为晶片製造者提供了一个工具,以精确测量晶片轮廓和尺寸,以及检测缺陷。该设备具有先进的光学特性和自动化特性,提供高精度和便利性,是芯片制造商的理想选择。
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