二手 EM ETAMAX UniMAP #293674206 待售
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ID: 293674206
优质的: 2013
Automatic reflectivity mapping system
With transformer for EU voltage, 230V
ULVAC Vacuum pump for robot
(14) Cassettes, 2"
(6) Cassettes, 4"
(6) Cassettes, 6"
X-Y Stage: AC Servo control
Cassette holder: 2"-6"
Operating cassette size: 2"-6"
Robot type: Auto loader
Flat zone finder
Z-Stage adjustment
Light source:
White LED: Reflectance measurement
LED Intensity monitoring: One sensor
Spectrometer:
3636 Pixels
Wavelength range: 420 nm, span: 380-800 nm
Hardware pixel resolution : 0.13 nm/pixel
Optic slit: 50 µm
USB Control
Filters and lens
Measurements:
Wafer surface uniformity
Reflectance by spectrometer
Calculated by maximum - minimum / Maximum + minimum
Calculated by standard deviation
Minimum and maximum value of reflectance
Data acquisition PC:
Operating system: Windows 7
LCD Monitor, 17
Sorting function:
PSS Uniformity / Reflectance mapping
Power supply: 220 V, 30 A, 3-Wires
CDA: 0.2 ~ 0.4 Mpa
2013 vintage.
EM ETAMAX UniMAP是一种前沿晶片测试和计量设备，旨在提供半导体晶片的综合分析和表征。该系统具备先进的电磁（EM）测试能力,并利用最新技术为半导体制造过程提供精确可靠的结果。UniMAP单元提供了广泛的测试和计量功能，这些功能对于确保半导体晶片的质量和性能至关重要。它能够测量晶圆的各种电磁性质，包括电导率、介电常数和介电常数。这些测量对于评估用于器件制造的半导体材料的电气和物理特性至关重要。EM ETAMAX UniMAP机的主要特点之一是测量精度和灵敏度高。该工具采用先进的传感器技术和信号处理算法来实现精确可靠的测量，即使在要求苛刻的半导体制造环境中也是如此。这确保了半导体制造商可以信任资产生成的数据用于关键决策过程。UniMAP模型除了具有电磁测试能力外，还提供了用于表征晶圆性质的综合计量功能。该设备可对晶片进行地形分析、厚度测量和缺陷检测，精度高，吞吐量高。这有助于半导体制造商在生产过程的早期发现晶片的任何问题,并进行必要的调整以提高产量和产品质量。EM ETAMAX UniMAP系统的另一个重要方面是它的多功能性和灵活性。该单元设计为适应半导体制造中常用的各种晶圆尺寸和类型，使其适合广泛的应用。无论制造商是使用硅片、复合半导体还是其他材料，UniMAP机都可以提供准确可靠的数据进行工艺优化。再者，EM ETAMAX UniMAP工具配备了用户友好的软件界面和直观的控件，使操作员能够轻松设置测试、分析数据和生成报告。该资产还支持自动化和与其他制造设备的集成,简化测试和计量过程以提高效率和生产率。总体而言，UniMAP模型对于希望增强晶圆测试和计量能力的半导体制造商来说是一个强大的工具。凭借先进的EM测试技术、全面的计量功能和用户友好的设计，设备使制造商能够在半导体生产中实现更高水平的质量控制、工艺优化和产品性能。
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