二手 EPIPLUS / ETAMAX Plato #9260679 待售
看起来这件物品已经卖了。检查下面的类似产品或与我们联系,我们经验丰富的团队将为您找到它。
单击可缩放
已售出
ID: 9260679
晶圆大小: 2"-8"
优质的: 2010
PL Mapping system, 2"-8"
X-Y Stage
Cassette loading
Flat zone finder
(2) Cassettes for 2"-8" wafer
Spectrometer:
Wavelength range: 420 nm
Hardware pixel resolution: 0.13 nm/pixel
Resolution:
0.5 mm for 2"
1 mm of 4"
2 mm for 8"
Thickness:
Measurement method: Optical interference by reflection
Accuracy / Reproducibility: 3% for GaN film
Photo Luminescence (PL):
Measurement items:
WP (Peak)
WD (Dominant)
Integrated and peak intensity
FWHM
Accuracy:
5% (Peak intensity / Integrated intensity)
<1 nm (Wp / FWHM)
Intensity measurement: High sensitive photo detector
(3) Pumping lasers: 266, 405, 532
Bowing measurement:
Reproducibility: ±5 um
Measuring range: 20 - 4000 um
Cap (2" Profile): <10 sec
Bowing mapping
Input voltage: 220 V
Current: 30 A
Compressed air: 0.2~0.4 MPa
2010 vintage.
EPIPLUS/ETAMAX柏拉图是KLA Tencor公司开发的晶圆测试和计量设备。它旨在检查和测量半导体晶片上的半导体器件，以确保这些部件的质量和可靠性。该系统采用了一系列先进的检验和计量技术，对晶圆以及与其相关的各种参数进行精确的测量、剖析和检验。ETAMAX柏拉图单元由几个核心元素组成：一系列自动化晶片级、高级光学和机载工具来分析晶片。自动晶片级的功能是将晶片精确定位在光学器件下方，然后捕获晶片的关键图像进行分析。负责对晶片进行成像和扫描的高级光学器件可配置为各种光学功能,以满足计量要求和检查目标。EPIPLUS柏拉图机器上的板载工具包括先进的、最先进的软件，它可以自动识别缺陷的过程。该软件可以根据图像模式识别各种类型的晶片缺陷，如结节、空隙、微裂纹和其他表面异常。此外，板载工具还包括计量扫描仪和录像机，允许用户测量晶圆的各种参数，如CD（临界维度）测量、基于CD的产量、迭加测量等等。柏拉图工具配有模块化设计，可以方便地添加或移除各种工具和组件，以满足客户的需求。因此，可以根据任何给定晶圆开发过程的需要对资产进行高度定制。模块化设计还在模型配置和可扩展性方面提供了广泛的灵活性。EPIPLUS/ETAMAX柏拉图设备以其先进的性能和超高精度而闻名。它已被证明能够提供可靠和可重复的测量结果，这有助于降低出错风险和提高工艺产量。总体而言，ETAMAX柏拉图是KLA Tencor公司开发的先进晶圆测试和计量系统。其巨大的设计灵活性、先进的元件和可靠的结果使其成为晶圆检验和计量过程中的热门选择。
还没有评论