二手 IMS LVIS-III #9134183 待售

IMS LVIS-III晶片测试和计量设备旨在提供对薄晶片和器件结构以及产量和可靠性问题的高度精确和可重复的测量。它是半导体行业中各种应用，如故障分析、过程监测、计量等的一个完善可靠的工具。LVIS-III由高分辨率、全场成像系统、严密的温度稳定环境、低噪声操作等几个独特的特性组成。全场成像单元可达到高达0.5um的分辨率,以便精确测量晶片上的特征。此外,计算机还提供了一种特殊的成像功能,可以将多个图像对齐到一个更大的图像中,从而提供更大的视野。精确的温度控制环境确保了最稳定的精确测量条件，而低噪声放大器进一步提高了精度。IMS LVIS-III具有检测和分析各种特征和缺陷的综合计量能力。它能够检查和隔离晶片上甚至很小的特征，如凸起的颗粒、划痕、表面纹理或亚微米的地下缺陷。它还配备了先进的缺陷分析工具，如故障分析截面、扫描X射线荧光、扫描离子显微镜等，以密切分析各种缺陷。LVIS-III工具设计用于快速可靠的数据收集。它消除了对物理晶片处理的需要,这种处理最多可以节省大量时间和成本。该资产还允许同时测量多达25个地点，以加快晶圆的测量速度，并可以提取测量以进行统计分析，从而为用户提供完整的分析包。总体而言，IMS LVIS-III晶圆测试和计量学模型是半导体行业的有力工具。它的高分辨率成像、温度稳定的环境和先进的计量能力使其成为晶圆测试、可靠性分析和过程监控的理想选择。