二手 KLA / FILMETRICS F20 #293637542 待售

KLA/FILMETRICS F20是一种晶圆测试和计量设备，设计用于对半导体晶圆的各种特性提供可靠、可重复、准确的测量。该系统利用光干涉技术精确表征各种材料特性，包括厚度、地形和其他表面特性。KLA F 20包括四个主要组件：精密级、光源、光学和电子。精密级用于扫描晶片并控制相对于光源的位置。光源是高度稳定的LED，以可见波长发光。光学器件是专门设计的透镜和滤光片，控制发射光的方向和偏振。电子元件为设备提供电源和必要的数据。FILMETRICS F20有两种内置测量参数：单点扫描和线性扫描。对于单点测量，舞台移动到用户定义的位置，机器测量反射光的峰峰幅度。然后将此信息用于计算晶圆的厚度、地形和其他材料特性。对于线性扫描测量,用户定义路径,刀具使用与单点测量相同的峰峰幅度测量过程扫描晶圆。然后收集和处理所有数据以生成2D地形图。F20旨在提供快速、准确和可重复的晶圆测量。机载电子使用先进的算法来调整条件的变化，如热漂移和振动。资产还允许验证测量的准确性和可重复性，如果测量超出公差，则提供反馈。KLA/FILMETRICS F 20有一个可选的SRS模块,用于定制特征关联测量。KLA F 20是半导体晶片材料测试和工艺控制的理想工具。该型号易于安装、使用和维护,并具有用户友好的操作功能。它为高速精确表征晶片提供了广泛的测量能力。