二手 KLA / TENCOR 4500 SURFSCAN #9411440 待售

ID: 9411440
晶圆大小: 2"-6"
Wafer inspection system, 2"-6" High angle optics Non-patterned surface inspection system Surface polisher: 0.025 % Submicron sensitivity: Detects 0.2 micron particles Surface haze sensitivity: Detects 0.4 PPM Scattering cross-section: < 0.5 micron² per 50 passes High scattering surface: Metals Polysilicon CVD Films.
KLA 4500是一种先进的晶圆测试和计量设备,提供卓越的过程控制、测量精度和可重复性。4500提供了评估和测量当今先进技术基板上关键表面的综合解决方桉,同时还提供了先进的缺陷检测功能,以确保晶圆生产线的高质量控制。4500结合了一套工艺控制选项,包括扫描电子显微镜(SEM)计量、光学图像分析、审查编辑和半导体行业的高级缺陷检查,以及能够实现从样品到样品的自动晶圆检查和测量的特定于样品的软件。4500的设计目的是快速准确地分析基板上的临界层,包括先进的图样晶片上的临界层;复杂的3 D纳米级结构;遮罩层,如门和装饰;和特殊的薄膜堆栈。它通过高分辨率的成像和专门的算法实现了这一点,这些算法可以检测最小缺陷并将其映射到± 1 nm以内。通过快速、自动化的分析功能,系统使制造商能够快速查明和解决问题,同时提供对其产品的全面评估。4500包括多种功能,使其能够提供快速、准确的结果。这些包括:高分辨率成像能力,能够详细可视化整个地表地形;分析扫描电子显微镜(SEM)图像的多个信号处理器;以及用于将成像结果与样品进行比较以测量晶圆缺陷或确定其他特性的复杂数据算法。此外,4500还包括一个获得专利的MDMVA(心轴形状缺陷测量和可视化算法)特征,用于快速检测、分类和量化其他难以测量的缺陷。4500还为制成品提供了大量其他好处,包括提高产量和缩短周期时间。这是由自动化晶圆测试和计量单元的数据分析来实现的,这些数据分析可用于优化流程和参数。利用这台机器,制造商能够快速分析工艺趋势,最大化吞吐量并确保最优质的基材。总而言之,TENCOR 4500是晶圆测试和计量的可靠且经济高效的解决方桉。它为测量当今先进技术基板上的关键表面提供了卓越的速度、精度和可重复性。此外,该工具还提供了广泛的功能和灵活性,使制造商能够充分利用其晶圆测试和计量操作。
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