二手 KLA / TENCOR 6220 Surfscan #9174323 待售
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ID: 9174323
Defect inspection system, 4"-8"
Laser hours: 2,184
PSL Sizing
Automatic wafer handler
Sensitivity:
Most surfaces: 0.20μm @ 95%
Polished surfaces: 0.10μm @ 95%
Detects sub-micron particles on bare silicon
Capture rate: 0.12μm defect sensitivity on bare silicon
Repeatability:
Less than 1.0% at 1 standard deviation
Mean count: > 500
Diameter latex spheres on bare silicon: 0.204
Contamination:
Less than 0.005 particles / cm > 0.15 μm
Haze sensitivity: 0.02 ppm
Defect map & Histogram:
Zoom illumination source
Argon-ion laser: 30 mW
Wavelength: 488 nm
2D Signal integration: 50μm Spatial resolution
Non-contaminating robotic handler
Random access: Sender / Receiver unit.
KLA/TENCOR 6220 Surfscan是一种完全可编程的晶圆测试和计量设备，具有多种光度、原子力显微镜（AFM）、地形和光谱能力。非常适合用于纳米制造、工艺控制以及先进半导体材料的研发。它与其他计量系统集成的能力使得它成为产品和工艺开发的绝佳选择。KLA 6220 Surfscan的高密度光学检测系统捕获缺陷站点的图像和地图，然后自动对其进行分类和测量。它包含用于胶片检查的多模式扫描模式,在三个维度的胶片集上以及在单个胶片表面上进行映射。这使得晶圆映射和一系列缺陷分析很容易发生。TENCOR 6220 Surfscan是为最大的通用性和准确性而设计的。它使用多种激光器提供晶圆表面缺陷的精确测量。其成像单元基于概率算法，可以区分缺陷特征，如凹坑、痕迹和划痕。它还可以非常精确地检查晶圆的垂直和水平表面上的粗糙度。6220 Surfscan还包括可靠的计量系统,可精确测量薄膜厚度和材料特性,如反射率和折射率。其光学、AFM和光谱系统协同工作，对化学成分、层厚和晶体生长方向进行精确测量，以帮助确保过程控制。KLA/TENCOR 6220 Surfscan提供多种接口选项,包括化学检测和电气测量。它还具有强大的软件来简化晶片对齐和捕获图像的过程。结果，机器可以被研究人员和工程师用来开发和测试新的材料、工艺和技术。总之，KLA 6220 Surfscan是一种先进、通用的晶片测试和计量工具，能够精确测量和检测缺陷。凭借其多模式扫描能力和可靠的测量，是先进半导体材料产品和工艺开发的绝佳选择。
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