二手 KLA / TENCOR Alpha Step 500 #189545 待售

KLA/TENCOR Alpha Step 500晶片测试和计量设备是一种用于通过测量半导体晶片上的薄膜深度和覆盖层来表征和监测薄膜材料发展的工具。该系统结合了几种先进的计量技术，如原子力显微镜（AFM）、椭圆偏振和光谱学，提供了薄膜的详细表征。KLA Alpha Step 500具有高精度的扫描机制，使其能够测量低至纳米级精度的薄膜。仪器能够以50、100、150、200和250 nm的增量扫描,以精确测量深度。该单元还能够测量薄膜厚度到低至200 nm的厚度,并且可以识别薄膜厚度的细微变化,直至1 nm的增量。此外，该机还能够分析各种薄膜材料，包括铝、铜、氧化锌和硝酸全新。TENCOR ALPHASTEP 500工具还能够测量薄膜沉积速率，以监测薄膜的发展。例如，资产可以测量薄膜随时间的沉积速率，从而使开发人员能够调整材料的增长率（例如，增加或减少增长率），以便优化所需的特性。另外，ALPHASTEP 500具有测量被测材料折射率的能力，可以提供对胶片物理特性的洞察。KLA/TENCOR ALPHASTEP 500还具有监测表面污染的能力，这可以成为芯片整体性能的关键因素。该模型能够测量直径低至0.7微米的表面颗粒，并能够检测到尘埃和水颗粒等污染物的存在。此外，该设备能够识别和测量颗粒的大小和形状，以便对薄膜进行准确和全面的表征。TENCOR Alpha Step 500除了在生产过程中提供对晶片表面的详细洞察外，还可用于检查成品是否存在颗粒污染。该系统可以识别基质中的嵌入颗粒，还可以分析空隙、针孔等材料缺陷。该单元还可用于测量晶圆的表面地形，以提供粒子形式和位置的详细信息。总体而言，KLA ALPHASTEP 500是一种高度精确的晶圆测试和计量机器，提供薄膜和基板的全面表征。该工具对薄膜的特性提供了详细的见解，可用于监测薄膜的发展，测量沉积速率，检查成品。该资产还具有识别和测量尺寸小至0.7微米颗粒的能力，可以对材料缺陷和表面地形进行深入分析。