二手 KLA / TENCOR LMS IPRO5 #9163708 待售
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已售出
ID: 9163708
优质的: 2012
CD Metrology system
Photomask registration
0.25 inch photomask and EUV masks
Static positional repeatability: 3s (Short therm: 0.5 nm)
Dynamic positional repeatability: 99.7% limit (Long term: 0.8 nm)
Positional accuracy: 99/7% limit (Long term): 1.0 nm
Light mod: Reflective and transmitted
Measurement principle:
Edge detection of parallel edges
Center of Gravity algorithm
Pattern centrality measurement capability
Illumination source wavelength: 266 nm
Objective lens: 80x, NA 0.80
Working distance: 6.9 mm
Stage laser positioning system: 0.15 nm (LAMDA / 4096)
Wavelength compensation: ETALON
Field of view: 22.5 microns by 22.5 microns
Handing: RSB 200 SMIF input / output
Mask stocker capacity: 2 x 4 6025 reticles
Software:
MS Windows 7
KLA Job processor
KLA LMSCOrr
KLA Deva
KLA CD Calib
KLA System monitor
KLA LMSASCII
KLA GEM Module
2012 vintage.
KLA/TENCOR LMS IPRO5是一种高性能晶圆测试和计量设备,有助于提高制造生产率和工艺一致性。它具有高精度的测量和可靠的操作,非常适合半导体行业的公司。该系统拥有强大的软件平台，支持自动测试数据分析和高级流程控制。该单元由几个组件组成，这些组件协同工作以精确测量特定晶片的属性。其光学模块提供了每个晶片临界尺寸的自动测量。其运输模块负责将适当的模具交付给晶圆企业。机器的芯片组由几个复杂的芯片组成，这些芯片提供控制工具所需的逻辑、电机控制和数字信号。该工具的集成计量学功能可收集和分析各种测试数据,如IQ、OQ和PQ度量,而无需手动编程。它还具有镜面反射率，这有助于提高测量的准确性和灵敏度。此外,其Auto-Focus功能有助于减少手动干预的需求,从而提高流程可靠性。该资产还具有易于使用、直观的软件用户界面。它允许操作员轻松设置自己的测试参数，校准测量模型，分析数据。这种直观的用户体验使即使是最没有经验的操作员也能快速使用设备。KLA LMS IPRO5设计灵活、可扩展，以满足现代半导体行业的需求。它提供了广泛的工艺能力和先进的计量解决方桉。该系统也高度可靠，易于维护。此外，其模块化设计允许升级。所有这些特性使其成为完善的晶圆测试和计量单元，以提高制造生产率和工艺统一性。
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