二手 KLA / TENCOR M 300 #9226127 待售

KLA/TENCOR M 300晶圆测试和计量解决方桉是专门为可制造性和过程控制应用而设计的先进光学成像平台。该设备利用独特的专利模式，以极高的精度和精确度测量来自集成晶片的量子电信号。KLA M 300平台的光头和步进电动机驱动级允许在各种缺陷级别上进行大面积测量和高分辨率成像。这使得它能够准确扫描可能对设备性能产生负面影响的微小缺陷和污染物（如灰尘和空洞）。它还可以检测光刻过程影响IC器件层时可能发生的过程集成影响。系统的成像功能包括自动缺陷分类（ADC）和检查与审阅（I&R）功能,可快速、全面地审阅和传输所获取的图像/数据。该设备可检测10nm大小的缺陷,可重复性σ 3个。此外，平台高度模块化，允许使用多通道光学头和最先进的全场成像。TENCOR M 300平台还包括CoAr和双模式应用等几个优势。CoAr应用程序允许快速的测试时间以及高精度的扫描以检测过程集成影响和微缺陷。这相当于增加了吞吐量和货币储蓄。双阵列应用是一种自动化的双通道缺陷检测技术，它使用两个独立的区域来检查单个晶圆。M 300的输出由KLA AMPLEX软件管理,因为它处理和存储所有图像和相关数据,从而可以快速轻松地进行基线比较。此外，平台设计方便维护，可快速、经济高效地进行升级。KLA/TENCOR M 300晶圆测试和计量解决方桉是一种最先进的机器,在任何环境下都具有高度的可靠性、可靠性和准确性。凭借其无与伦比的技术和能力，它是确保可制造性和过程控制的完美工具。