二手 KLA / TENCOR M-Gauge 300 #6455 待售

KLA/TENCOR M-Gauge 300是半导体工业的多维、全晶圆级测量和分析设备。它专为高级流程、设备和流程控制的快速、现场表征而设计。KLA M-Gage 300由硬件和软件组件组合而成，允许对晶圆进行高精度、实时的测量和分析。该系统采用先进的光学和高精度激光干涉测量，实时表征晶片的物理特性。有了这些特征，单位可以通过小点计量（如宽度、深度、高度和位置精度）来测量晶圆表面小特征的尺寸；测量工艺输出条件（厚度、电阻率和迭加精确度）；并测量3 D曲面特征,如步高、曲面轮廓等。TENCOR M-Gauge 300通过自动采样深度和表面测量提供高吞吐量。该机器能够在程序8/2模式下测量每个样品高达20,000点，为大型或复杂结构提供高速分析。该工具还允许在X-Y阶段自定义插入和提取样品，从而能够对各层进行完整和准确的测量。M-Gage 300除了晶圆级测量外，还具有强大的数据收集和分析能力。通过其综合分析软件套件，资产可用于检查和分析从晶圆获得的任何类型的数据。这包括2D成像、矢量/标量数据、基于时间的数据和3D配置文件数据等。此外,还可以轻松地将数据与模型上的测试结果和过程信息集成在一起,以充分描述整个过程。总体而言，KLA/TENCOR M-Gauge 300是一种可靠和高度精确的晶圆测试和计量设备，能够快速高效地表征各种晶圆参数。该系统结合了先进的光学、激光和分析功能,为设计、优化和监控尖端工艺和设备提供了必要的见解,确保了高成功率和提高了产量。