二手 KLA / TENCOR P15 #9004295 待售

ID: 9004295
晶圆大小: 4"-8"
优质的: 2005
Wafer surface inspection system, 4"-8" P/N: 00151-000 PC Configuration: CPU: Pentium III-C 650 MHz processor Memory: 128M 20 GB HDD 1.4MB 3.5” Floppy disk drive OS: Windows NT 4.0 Application software: Version 6.3 Performance requirement: Vertical range: 0-300 um Stylus force: 1-50 mg Constant stylus force control Dual view optics (sideview: 95-410x, topview: 115-465x) Black and white camera Stylus: 2.0 um radius 2005 vintage.
KLA/TENCOR P15是一种晶圆测试和计量设备,专为高效晶圆测试和监测各种半导体产品的制造过程而设计。它是一个多传感器系统,可用于计量应用,如横截面分析、形状和表面分析,以及用于测试工作流程。这个单元提供了广泛的技术,从光学显微镜、白光干涉测量、手写笔测量到电气测试、热电测试和声学显微镜。KLA P-15机具有先进的成像、图像处理和分析技术的结合。该工具可以检测晶片的物理特性,如地形、均匀性和电阻。它还提供了广泛的表征参数,包括模具尺寸、螺距、形状和平坦度。TENCOR P 15资产配备了一系列自动化功能,使半导体工艺在制造过程中更容易受到最佳监控。通过利用这种模型来监测晶片在制造过程中的战略要点,制造商可以在需要时尽早采取纠正措施。该设备还具有跟踪和调整晶圆参数的实时系统,以确保产品的一致性。该单元为开发复杂晶圆制造检验提供了可靠的数据采集、图像处理和分析工具。它能够从显微镜中捕获电子图像并将数据处理到报告或CAD图像中,或者运行自定义算法来评估粒子计数、蚀刻速率、边缘质量和产量。这台机器配备了边缘检测算法和算法,将小粒子和较大的缺陷信号分开。它可以进行高速、准确的测试,提供晶圆的精确、全面的表征。KLA/TENCOR P 15拥有广泛的能源来源,包括原子力显微镜(AFM)、光刻和等离子体蚀刻。数据采集工具支持各种图像和表征模式,并提供标准格式的输出。它甚至可以与其他测试设备集成,以补充过程控制。总之,KLA P 15是一种先进的晶圆测试和监测资产,旨在进行高效的制造监测。其强大而全面的功能提供了全面的表征和反馈系统,以提高生产线的可见性。此模型在最小化制造过程中的缺陷、提高产量以及降低成本和提前时间方面极为有用。
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