二手 KLA / TENCOR / THERMA-WAVE OP 2600 #9130299 待售

KLA/TENCOR/THERMA-WAVE OP 2600是一种前沿晶片测试和计量设备，用于测量、分析和评估半导体晶片的电气、物理和制造缺陷。该系统支持广泛的研发工作，包括先进的光刻和统计过程控制。KLA OP 2600单元是一个全自动的光学计量平台，能够测量二维和三维结构。它提供了优于以前型号的计量精度、速度和可靠性,从而实现了比以往更高的测量精度和可靠性。TENCOR OP 2600机器提供先进的掩码和标线性能监控,能够快速准确地测量密集和孤立的特征。它还提供集成的Sub-Micron晶圆检测能力，以确保生产出近乎完美的晶圆。该刀具可测量线宽到0.03微米，速度和精度无与伦比。此外，THERMA-WAVE OP 2600能检测尖端和线宽缺陷，速度和精度都很高。高级模具功能允许进行全晶圆图像分析,从而可以更快、更准确地分析各种掩码和标线。该资产还提供集成的光学频域反射计（OFDR）,用于测量物理和电气缺陷。OP 2600的OFDR模块可以检测到低至0.2微米分辨率的缺陷，从而能够识别和量化微米级缺陷。此外,该模型还具有高级功能,如2D和3D映射、自动边缘和阵列识别以及用于数据分析的类似CAD的编辑。KLA/TENCOR/THERMA-WAVE OP 2600设备能够执行一系列晶圆级计量任务，如线宽计量、迭加计量、缺陷检测检验、3D表征等。这种性能水平在需要高度精确度的生产环境中特别有用。该系统旨在支持统计过程控制，允许每个晶片的完全可追踪性。这种高精度和吞吐量为半导体行业提供了无与伦比的优势。总体而言，KLA OP 2600单元是一台先进的晶圆测试和计量机器，为测量、分析和评估半导体晶圆提供无与伦比的速度和精度。该工具的高级模具功能、灵活的解决方桉集以及出色的计量精度,为从研发到生产环境的所有方面提供了卓越的解决方桉。