二手 KLA / TENCOR / THERMA-WAVE OP 2600 #9214771 待售

ID: 9214771
晶圆大小: 8"
优质的: 1994
Film thickness measurement system, 8" Multiple layers Refraction index Thick and thin film Extinction coefficient Reflectivity measurements (2) Cassette loader stations Thermoelectrically cooled diode laser: 675 nm Lamp: Tungsten halogen Measurements: Multi-layer and multi-parameter on thin ONO & OPO film stacks Polish slopes: 7 micron x 7 micron Wafer ranging: 4"-8" Thick dielectric films BPR >500A BPE <500A Spectrometry Visible: 450 nm-840 nm High index films: C-Si, Poly-Si, A-Si 1994 vintage.
KLA/TENCOR/THERMA-WAVE OP 2600是一种高性能晶圆测试和计量设备,旨在提供准确可靠的晶圆测量。该系统利用先进的光学和综合计量,快速准确地评估晶片的物理特性,包括材料厚度、均匀性、地形、粗糙度和其他参数。该单元对晶片薄膜和晶片表面特性进行高速、自动的非接触测量。它具有自动化的精密校准过程,以确保结果的准确性,并配有高分辨率成像机以提供晶圆特性的最大分辨率。该工具设计为用户友好,具有直观的用户界面,可提供快速操作和数据分析。KLA OP 2600利用5轴级进行精确的3D纳米级测量,并具有全半自动映射功能。它可以在自动加载/卸载过程中最多存储8个晶片,让大量晶片可以快速、轻松地进行测试和测量。该资产可以以高达0.5 um的分辨率测量晶圆地形,并在3D维度上具有纳米可重复性。它还包括一系列专门用于各种测量和测试技术的计量软件,例如Advanced Process Control,它提供对过程参数的实时监控,以确保最佳晶圆质量。此外,它还可以与SPC软件集成,从而实现进一步的流程优化。TENCOR OP 2600可配置自动视觉工具和/或光学显微镜进行缺陷分析和检查,并包括一系列用于高级成像分析和缺陷识别的软件选项。此外,还可以使用自定义参数升级模型,以确保与行业标准的兼容性。总体而言,THERMA-WAVE OP 2600是一种用于精确测量和分析晶圆特性的全面且价格合理的解决方桉。它采用最先进的计量和成像技术设计,以提供准确的结果,具有高度的可重复性和可靠性。适用于一系列晶圆制造应用,为质量控制和工艺优化提供了高效的解决方桉。
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