二手 KLA / TENCOR / THERMA-WAVE OPTIPROBE 3290 #9124948 待售

ID: 9124948
晶圆大小: 4"-8"
Thin film measurement system, 4"-8" (2) Cassette loader stations Beam Profile Reflectrometry (BPR): Thick dielectric films > 500A Beam Profile Ellipsometry (BPE): Thin dielectric films < 500A Thermo electrically cooled diode laser: 675 nm Tungsten halogen lamp for spectrometry mode: 450 to 840 nm Spectrometry: Index films: C-Si Poly-Si A-Si Spot size: 0.9 Micron Optical parameters: Film thickness multiple layers Wide range thick and thin films Wide range index of refractions Extinction coefficient and reflectivity measurements Multi-layer and multi-parameter measurements: Thin ONO OPO Film stacks.
KLA/TENCOR/THERMA-WAVE OPTIPROBE 3290是一种晶圆测试和计量设备,旨在准确评估半导体器件的质量和均匀性。该系统以高精度、高速度和高精度全面测量整个晶圆的各种器件参数。KLA OPTIBE 3290由一个3290光学显微镜模块和一个3200自动晶圆处理单元组成。3290显微镜通过增强的光学、增强的分辨率和广阔的视野提供了强大的诊断信息。3200自动晶片处理机提供业界领先的吞吐量和准确性,允许高采样吞吐量。3290 Optiprobe提供了测量设备关键特征大小、侧壁角度、拐角舍入、形状、线宽粗糙度等的功能。此工具提供卓越的分辨率来捕捉设备功能上的最小差异。它还为精确测量纳米结构提供了增强的灵敏度。此外,3290针对非接触和接触计量进行了优化,提供了精确测量和剖析甚至最困难的几何形状的能力。TENCOR OPTIBE PROBE 3290还提供业界最先进的成像功能,包括扩展景深和3D针迹成像。此资产包括专有的KLA图像采集和处理算法,这些算法为最具挑战性的成像应用程序提供了更高的准确性和分辨率。OPTIBE 3290提供自动缺陷审查,能够快速纠正缺陷以提高质量。3290提供了交互式审阅界面和可定制的报告选项,使用户能够比较来自整个晶圆不同位置的结果。通过将3290显微镜与3200自动晶片处理模型相结合,中等体积的半导体生产和器件表征操作可以受益于提高的吞吐量、精度和提高的晶片质量。THERMA-WAVE OPTIBE PROBE 3290为用户提供了半导体制造成功所需的精确度、分辨率和灵活性。
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