二手 NANOMETRICS LYNX #9212673 待售

ID: 9212673
晶圆大小: 12"
优质的: 2011
Critical dimension measurement system, 12" Nano OCD Loading configuration: (4) Load ports EFEM Metro unit Power rating: 200 VAC~240 VAC, Single phase 2011 vintage.
NANOMETRICS LYNX是晶圆测试和计量学界公认的领导者。它结合了最先进的测量技术,以前所未有的速度和准确度进行晶圆级测试和计量任务。该设备对各种晶片材料类型提供实时、高速、无侵入和高精度的计量,主要是硅片和硅/氙片(SiGe)。LYNX系统旨在与光刻设备密切协作,例如通过控制步进器和其他相关工艺设备,提高晶片在大功率半导体设计中的特征尺寸均匀性。利用其高分辨率、高速成像能力,该单元可以在高放大和低放大倍数设置下,快速精确地测量晶片表面上的光刻形状特征。此外,机器包括一个先进的测量引擎,能够自动模式识别操作。它使用高度优化的算法来识别晶圆上的关键特征,并自动创建真实的位置测量。此过程允许工具以微秒精度提供晶圆级的模具放置精度测量。该资产还包含一个功能强大的控制平台,使用户能够根据用户偏好轻松配置和修改设置参数。它存储定制的需求,使模型能够快速轻松地为要求最苛刻的计量项目设置。NANOMETRICS LYNX硬件由高速、高分辨率成像设备、用于校准单元组件的精确对准系统和步进兼容控制机组成。它与一个软件套件集成在一起,该套件提供了广泛的测量功能,如线宽、特征高度和倾斜以及缺陷等级。该软件还为图像分割、夹具自动识别和校准以及支持多种语言提供了强大的功能。此外,该软件还通过提供高级优化工具来释放工具的全部潜力,从而自动提高检测器的性能并最大限度地减少来自环境的噪音。该资产采用模块化设计构建,允许用户使用其他组件配置模型。这种可扩展性使设备能够为各种晶圆尺寸和特性提供精确和可重复的测量。总体而言,LYNX系统是业界领先的计量工具,它以前所未有的速度和精度提供高质量的测量,同时与光刻设备无缝集成,用于晶圆级的模具放置精度测量。
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