二手 RUDOLPH MetaPulse 300 Cu #9124175 待售

ID: 9124175
晶圆大小: 12"
优质的: 2002
Thin film measurement system, 12" Ultrathin at 45 nm technology node to thick opaque films Picosecond laser sonar (PULSE tm) technology Product measurement are enabled with small spot size & non-contact Non-destructive measurement method RMS roughness Material density Adhesion Material phase and interlayer reactions Low-k and ultra low-k ILD modulus capabilities 2002 vintage.
RUDOLPH MetaPulse 300 Cu是一种晶圆测试和计量设备,设计用于半导体制造过程。系统采用300毫米晶圆尺寸,既可以处理硅晶圆,也可以处理非硅晶圆。它能够提供临界尺寸(CD)和光学表面特性(OSP)的光电测量。MetaPulse 300 Cu单元使用KrF准分子激光器,是一种能够产生纳米级精度的短波长激光器。它还配备了光学散射仪,用于测量晶圆表面的光学特性,包括涂层厚度、缺陷的总范围等等。该机拥有强大的2K CCD线扫描摄像头,可高速运行,精确测量各种参数。它还配备了用于高分辨率光谱成像的多波长分光光度计,以及用于快速模式识别的电子束图样化工具。资产配备了先进的软件算法和数据处理技术,使其能够提供高度准确的结果。它支持历史可追踪性、数据驱动的统计过程控制以及配置文件数据的图形可视化。RUDOLPH MetaPulse 300 Cu模型设计用于一系列制造过程,包括晶圆稀释、快速缺陷模板应用以及迭加优化。它还能够模拟超浅结,测量掩模配准和临界尺寸。该设备确保了精确度和吞吐量效率,是任何晶圆厂工艺的理想选择。其先进的功能和稳健的设计使得它成为任何晶圆制造工艺的可靠选择。
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