二手 RUDOLPH MetaPulse-II 200X-Cu #9395847 待售

RUDOLPH MetaPulse-II 200X-Cu是一种高度先进的晶圆测试和计量设备，设计用于半导体制造行业。该系统基于一个强大的200X扫描电子显微镜（SEM）设计，以满足最先进的应用的最高要求。该装置采用高分辨率成像子系统、高精度偏转器以及直接和间接电子能谱探测器，可进行高度精确的测量。它能够在中低光束电流水平下运行，样品损坏最小。该机器还包括一个功能强大的自动化和数据管理工具，具有定制的报告功能，以及一个先进的样本分期资产和两个可互换的腔室设计。这使用户能够轻松地为其特定应用程序选择最佳测量参数。此外,该模型还配备了自动化缺陷定位设备,使用户能够在制造阶段前后快速准确地识别和表征半导体晶片中的缺陷。NanoProbe 200x-Cu Wafer Analyzer，MetaPulse家族中最先进的计量产品，是一种专门为晶圆级测量而设计的完全集成的扫描电子显微镜。它具有自动晶圆处理和阶段映射功能,具有自动高速自动化功能,能够测量和比较15 nm以下的特征大小。它还提供二次电子成像（SEI）和聚焦离子束（FIB）功能,具有数字变焦和图像增强功能,可进行各种高精度测量。MetaPulse-II 200X-Cu系统能够进行广泛的晶圆检查和分析,包括缺陷审查、临界维度（CD）计量、迭加配准和监控、电阻率测量等。通过提供灵活、可配置的分析平台，该单元可用于从晶圆特性测量到缺陷和污染验证等多种应用。总之，RUDOLPH MetaPulse-II 200X-Cu是一种功能强大的晶圆测试和计量机器，专门设计用于半导体制造工业。它结合了高分辨率成像子系统、高精度偏转器和电子能谱检测器，让用户能够准确快速地测量和分析半导体晶片上的精细电子特征。该工具还包括高速自动化资产NanoProbe 200X-Cu Wafer Analyzer,以及旨在为用户提供灵活、可配置的晶圆测试和分析平台的一系列其他出色功能。