二手 ACM Ultra C #293758647 待售

製造商
ACM
模型
Ultra C
ID: 293758647
晶圆大小: 8"-12"
Wet cleaning system, 8"-12" (4) Loading ports EFEM Aligner and robot Chuck Type: Mechanical Clean chemical: DIO3, SC1, SC2, dHF, F water, IPA (2) Process robots (12) Process chambers SAPS Wafer cleaning system SAPS Mega Sonic: 0-1.5 w/cm² Uniform supersonic power density: WIWNU <2% Particle performance: ≤10 at 30 nm Metal pollution: ≤ 1 x 10^10 atoms/cm² Throughput: 225 WPH (90s recipe) Pre-isolation metal deposition (8) Chambers Nodes shrink: 65 nm - 22 nm Model / Chamber number / Chemicals / Robot number / Throughput SAPS II / 8 (3/2/3) / 3+DI+IPA / 1 / 300 WPH SAPS III / 8 (4/4) / 2+DI / 2 / 350 WPH SAPS V / 12 (3/3/3/3) / 3+DI+IPA / 3 / 600 WPH Drying method: N2 Rotary drying Liquid IPA.
ACM Ultra C是一个最先进的湿式站,它集成了先进的技术和功能,可在半导体制造过程中提供高效、精确和可靠的性能。该湿站的设计旨在满足业界对高生产率和产量的不断增长的需求,同时确保卓越的质量和对工艺参数的控制。Ultra C湿式工作站是一种通用灵活的工具,可以定制以满足特定的工艺要求,并适应半导体制造环境中不断变化的需求。ACM Ultra C湿站配备了一系列提升性能和能力的创新技术。该湿式站的一个主要特点是其先进的自动化设备,能够对湿式工序步骤进行精确的控制和监测。自动化系统通过最大限度地减少过程中的人为错误和可变性来确保一致和可靠的结果。它还允许对湿站进行远程监控,使操作员能够优化流程参数,实时排除问题。UltraC湿站的另一个重要特点是其先进的化学输送装置。本机设计精密分配化学品和工艺解决方桉,具有高精度和重复性。对化学品输送的精确控制确保了湿工艺步骤的均匀性,并最大限度地减少了结果的变化,从而提高了工艺的可靠性和产量。化学品输送工具配有先进的传感器和监测技术,用于检测和预防化学品泄漏或不当分配等问题,确保过程的安全和完整性。除了先进的自动化和化学输送系统外,ACM Ultra C湿站还配备了一系列的过程控制和监控技术。这些包括实时监测过程参数,如温度、压力、流速和化学浓度。湿式测站能够收集和分析来自这些传感器的数据,以优化工艺条件并检测任何偏离所需规格的情况。这种控制和监控水平使操作员能够做出明智的决定和调整,以确保过程的稳定性和一致性。Ultra C湿式工作站设计方便用户且易于操作。它具有直观的界面,允许操作员设置和监视流程参数、查看实时数据以及有效地排除问题。湿站还配备了内置的安全功能,以保护操作员和环境免受与化学过程相关的潜在危害。这些安全功能包括紧急停止按钮、泄漏检测传感器,以及在发生严重故障时自动关闭协议。总体而言,ACM Ultra C湿站是在半导体制造过程中提供高性能、可靠性和灵活性的前沿工具。其先进的技术和功能可实现湿法工艺的精确控制、监控和自动化,从而提高半导体制造的生产率、产量和质量。Ultra C湿式站具有用户友好的界面和强大的安全功能,是半导体制造商的理想解决方桉,他们希望优化湿式加工操作并在竞争激烈的行业中保持领先地位。
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