二手 AKRION AWP #9141985 待售
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ID: 9141985
晶圆大小: 8"
优质的: 1996
Wet process system, 8"
Type : BOE
Install type : Stand alone
Process flow : R -> L
Cassette interface :
(2) Asyst integrated SMIF
(50) Wafer batch loading
Robot handler : Hauser HDX115C6-885
Module configuration :
Mod 1 (Process) : BHF
ƒChem : BHF 400:1
ƒTemp : 23°C
ƒMaterial type : Quartz tank
Mod 2 (Rinse) : QDR (Cold)
ƒTemp : Ambient
ƒMaterial type : PVDF
Mod 2 (Clean) : Gripper clean (GC)
ƒMaterial type : PVDF
Mod 3 (Process) : BHF
ƒChem : BHF 40:1
ƒTemp : 23°C
ƒMaterial type : Quartz tank
Mod 4 (Rinse) : QDR (Cold)
ƒTemp : Ambient
ƒMaterial type : PVDF
Mod 5 (Dryer) : DMG
ƒMarangoni IPA dry
ƒMaterial type : PVDF
Mod 6 (Dryer) : DMG
ƒMarangoni IPA dry
ƒMaterial type : PVDF
Mod 7 (Auxiliary) : AUX
Mod 8 (Buffer) : PP
Mod 9 (Transfer) : Transfer station
Mod 9 (In/Out station) : In/Out
ƒUI, CPU, Monitors
ƒFire extinguisher system (Control panel)
Chemicals :
BHF (PFA material)
IPA (SS material)
Drains :
Main : PVC, 50A
Acid : PVC, 50A
Industrial : PVC, 50A
Reclaim : PVC, 50A
Exhaust :
Acid : PVC, 100A (Flange)
IPA : PVC, 100A (Flange)
Solvent : PVC, 100A (Flange)
Safety interlocks :
Leakage sensor
Temp
Over temp
Exhaust
Sniffer
Ultrasonic dry protect
Heat exchanger
Door sensors
Light barrier
Power requirements : 120/208VAC (25kVA), 60A, 3-Phase, 5-wire, Freq 60Hz
UPS back-up power : 120/208VAC (8.5kVA), 30A, 3-Phase, 5-wire, Freq 60Hz
1996 vintage.
AKRION AWP（Advanced Wet Processing）是由AKRION Systems设计的湿式站。它设计用于各种先进半导体应用中的精密晶圆制造和加工，如前端线下和后端线下（BEOL）工艺。AWP拥有一条完全自动化的湿工艺生产线,占地面积大,吞吐量高。设备配备了一个平台，能够同时处理多达二百二十八（228）个晶圆处理插槽，可扩展到四百五十五（455）个。整个系统的模块化设计以最小的停机和返工提供了较高的过程效率。该站有一个多轴机械臂装置，用于晶片在前置和后置过程中的无缝运动。机械臂可以被编程为将晶片从一个位置旋转到另一个位置，并且可以容纳多达一百五十五（155）个卡带和/或载波。机器还配备了串联晶片扫描仪，让用户可以连续检查晶片表面的均匀性。AKRION AWP包括一个装有高级计量软件包的工艺室，提供高精度的测量和分析。集成的数据记录软件允许用户监视和记录温度、气流和压力等制造统计信息。此外，该站还有一个集成的机器学习算法，能够准确确定最佳工艺参数，以获得最佳性能。该站具有广泛的湿工艺能力，包括自旋涂层、化学湿蚀刻、光刻、化学机械抛光（CMP）和晶圆清洗。它还配备了一系列自动化过程控制系统，包括湿度监测和振动感测，以便进行精确、自动化的过程控制。集成过程控制算法进一步确保了该工具以高效的方式运行。资产能够处理各种工艺参数，如温度、压力、流量、湿度和气体浓度。此外，综合安全系统包括一个压力敏感的安全阀，以防止在加压环境中发生事故。所有这些特性和功能相结合，使AWP成为市场上最先进、最高效的湿站解决方桉之一。AKRION AWP具有强大的设计、高通量和过程控制能力,适用于BEOL和MEMS器件制造等广泛的前沿半导体应用。
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