二手 AKRION HL 2000 #9157799 待售

AKRION HL 2000是一个湿式站，设计用于提供一个完整的用于半导体和微电子器件制造的湿蚀刻设备。它是一个通用的平台，用于蚀刻，清洗和HF酸去除过程。该系统能够处理多达四个晶片，设计用于压缩加工时间和减少化学用量。HL 2000配置了具有多个盒式磁带选项的单个腔室。它具有晶片全自动装卸过程，腔室设计为防止化学气和其他污染物进入装置。可选的进程控制器允许远程操作和监视。机器配备了两个气体分配系统，因此用户可以创建自己的工艺配方。真空泵工具提供高达5英寸的汞真空和温度控制。洗涤器可保护操作员免受危险排气。AKRION HL 2000还包括湿工艺控制，如回填和前填工艺室。这些控制有助于调节用于蚀刻和清洁的HF酸的量。该资产还采用了先进的综合化学饲料模型，以实现更高效、更一致的工艺结果。集成控制器跟踪必要的参数,包括温度、流速和高级过程控制的时间。该设备还提供先进的综合过程监测能力，包括室内成像和粒子探测。可选的化学回收模块有助于降低化学和废水成本,同时提供更清洁的工艺。总体而言,HL 2000设计为提供安全、集成和可靠的湿蚀刻系统。它能够为各种半导体和微电子器件提供快速高效的处理，提供高质量的结果。