二手 AKRION UP-V2-HL 2000 #19302 待售

AKRION UP-V2-HL 2000是一个高度先进的湿式站，设计用于处理表面清洁、晶圆蚀刻、柱子清洁等。它是一个集成在单个设备中的多阶段加工室，使工作人员能够分别监测和控制每个步骤的进度。该系统非常灵活，可以容纳各种各样的材料和工艺。该单元从低压多晶硅晶体蚀刻阶段开始，金属离子用于在纳米级蚀刻多晶硅等材料。这个阶段之后是一个后清洁阶段，其中任何残留的金属离子被去除，工件被清洗，以便在这个过程的下一个步骤。接下来的两个阶段涉及高压干洗过程。这种高压干洗工艺采用热空气、氙气和氧气的组合，去除不需要的颗粒，增强晶圆表面质量。该机器还能够控制气体的温度以提供高度精确的结果。该工具与各种工艺兼容，包括光刻、光刻、离子植入、扩散和蚀刻。UP-V2-HL 2000配备了高级用户界面,可直接控制流程的每个阶段。这使工作人员能够快速分析每个阶段的质量，并根据需要进行改动，使他们能够完全控制整个操作。最后,资产配备了紧急关闭功能,可确保实验室的安全。该型号还配备了自动填充选项，确保工作人员能够长时间安全地无人值守设备。AKRION UP-V2-HL 2000是一个高度先进的湿式站，可以轻松处理复杂的过程。其用户友好的界面和灵活性使其成为一系列表面清洁和蚀刻操作的理想选择。