二手 AKRION UP-V2 HL 2000 #70444 待售

AKRION UP-V2 HL 2000是来自AKRION的高精度晶圆处理解决方桉，旨在满足半导体行业的需求。它在高性能加工节点的湿式化学蚀刻工艺中提供了更高的精度、准确性和可重复性。UP-V2 HL 2000湿式站具有模块化机器人平台、综合湿式化学输送、低压化学气相沉积、大容量烘烤和特征对准。该HL2000具有最先进的模块化机器人平台,专为灵活性、速度和准确性而设计。这个机器人平台允许用户快速重新编程工作站，以获取不同的工具、任务和流程配方。低压化学气相沉积系统，允许用户生产具有广泛蚀刻化学选择的均匀薄膜。此外，该站的综合湿式化学输送系统提供精确可靠的蚀刻化学物质直接输送至基质。AKRION UP-V2 HL 2000还具有一个大容量烘烤系统，能够容纳多达12英寸晶圆和400毫米到700毫米基材。此外，该站还配备了功能对准系统，可在短短3秒内精确测量、对准和存储功能数据。这允许在整个过程中进行高精度的特征测量和改进的可重复性。UP-V2 HL 2000为蚀刻工艺提供了卓越的性能和可重复性,即使在复杂的工艺流程中也是如此。它旨在满足最苛刻工艺的需求，包括高长宽比蚀刻、高分辨率各向异性蚀刻和高温蚀刻。该HL2000是前沿半导体器件生产的理想解决方桉,可实现卓越的性能和过程控制。