二手 DNS / DAINIPPON FC-3100 #78944 待售

看起来这件物品已经卖了。检查下面的类似产品或与我们联系,我们经验丰富的团队将为您找到它。

ID: 78944
Wet station, 12" Cassette Interface: (2) 12" FOUP 4-Tank System: Tank #1: SPM Tank #2: SPM Tank #3: ONB Tank #4: HF CSB1 = NH4OH CSB2 = H2O2 CSB3 = SPARE CSB4 = HF CSB5 = HF Diagram 5L272998-FL273004 LUFRAN Model 144-6UU6-R6 – DI Water Heater Chemicals Used: Hydrofluoric Acid AQUEOUS, IPA, Hydrogen Peroxide, Ammonium Hydroxide, Sulfuric Acid, Carbon Dioxide, N2 Electrical Requirements: V 208, 3-Phase, 3-Wire, 50 / 60 Hz 2007 vintage.
DNS/DAINIPPON FC-3100湿站是半导体制造的高性能、经济高效的自动化加工平台。该设备采用先进的自动化和过程控制系统进行设计,以便在整个IC制造过程中减少干预、最大限度地减少可变性并提高产量。DNS FC3100由两室湿站处理能力组成。第一个腔室是一个湿工艺模块,方便晶片的引发、蚀刻、冲洗和清洁。该工艺室由先进的工艺控制系统控制,提供高效、无风险的晶圆加工方法。这包括溷合配方,调整温度和压力设置,控制腔内液体的流量和水平,以及监测电流状况。该室还具有精确的压力测量、自动化的过程控制和板载晶圆分选器。DAINIPPON FC 3100的第二室是干燥模组,发生在湿製程模组完成后。该室采用热、化学气相沉积和直流电溅射工艺的组合,以干燥晶片,并确保最佳清除多余的液体残留物。这也有助于消除残留物清除过程不一致造成的扭曲。晶片干燥后,晶片分选器会自动对其进行排序和对齐,然后再将其发送到下一个进程。此外,FC3100湿站还设有一个有源故障监视器,该监视器显示工艺室内的当前状况,并协助调整与工艺现状有关的参数。此外,实时反馈和流程知识有助于确保不断实现最佳结果和效率。通过其高效的设计、集成的自动化和过程控制系统,FC-3100对于那些希望对其晶片进行高性能、经济高效的处理和过程控制的人来说是必不可少的资源。
还没有评论