二手 DNS / DAINIPPON FC-3100 #9033293 待售
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ID: 9033293
Wet station, 12"
Operating system: Windows
Bath configuration: LD/ULD-HS-HQDR-SC1-HQDR-HF-QDR-LPD-LPD
Load / Unload port: (2) Common
Mecha:
Motor: Servo motor
Robot
Chuck: Coating
H2SO4 Bath:
Material: Quartz
Heater
Filter: 30 nm
Use chemical: H2SO4 + H2O2
Wafer guide: Quartz
HQDR Bath:
Material: Quartz
Use chemical: DIW
Wafer guide: Quartz
SC1 Bath:
Material: Quartz
Heater
Filter: 30nm
Use chemical: NH4OH + H2O2
Wafer guide: Quartz
HQDR Bath:
Material: Quartz
Use chemical: DIW
Wafer guide: Quartz
HF Bath:
Material: PEEK
Heater
Filter: 30nm
Use chemical: HF
Wafer guide: PEEK
QDR Bath:
Material: TEFRON
Use chemical: DIW
Wafer guide: PEEK
LPD:
Material: TEFRON
Heater
Use chemical: DIW + 1PA + HF
Wafer guide: PEEK
2007 vintage.
DNS/DAINIPPON FC-3100是一个用于半导体光刻和蚀刻的湿式站。它是一种包含超高分辨率步进器和扫描仪的组合设备，具有先进的CCD式控制器，用于蚀刻半导体芯片。其精度由X-Y级和长行程z-轴的组合维持。DNS FC3100有一个动态多镜头系统，提供精确度来创建复杂的微芯片。这三个光学器件中的每一个都被编程为提供一个截然不同的焦点平面。然后将光学单元与一个精密级耦合，该精密级允许微调机器中的各种参数。扫描级使用具有长行程Z轴的X-Y级，以保持高达1 µm的整体精度。DAINIPPON FC 3100具有自动基板加载工具,用于将基板加载和卸载到操作区域。基板加载资产配有传感器，用于监控晶圆的放置。传感器在加载和卸载期间提供警报,以提醒操作员任何与指定参数不对齐或偏离的情况。将光学检测模型与检测基板缺陷的FC-3100相结合.该设备配有高精度透镜和图像处理软件，用于在从操作区域去除基板之前识别缺陷。然后,将此缺陷检测与自动硬件系统结合起来,该系统将有缺陷的晶片与操作区域进行检查和隔离。DAINIPPON FC-3100还有一个环境控制单元来维持工作温度。这台机器为步进器和扫描仪的光学隔间提供精确的温度控制，并确保所有变量的操作都得到优化。最后，DNS FC 3100配备了手持式慢跑控制器等安全功能。这个慢跑控制器可以让操作员仔细导航舞台，协调光学系统。此外，DNS/DAINIPPON FC 3100附有一个低排放搅拌真空工具，以确保石油、灰尘和污染按照工艺规范得到控制。总之，FC 3100湿站是一种高度精密和先进的资产，旨在为半导体芯片提供高度精确的处理。它结合了自动光学系统、精密级、环境控制、自动晶圆处理和安全功能,是光刻和蚀刻操作的理想选择。
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