二手 DNS / DAINIPPON / SCREEN WS-820L #293774674 待售

ID: 293774674
晶圆大小: 8"
优质的: 2009
Wet station, 8" CIM SMIF Interface Quartz / PFA Coater: Tank 1: LD Tank 2: CHCL Tank 3: SC1 Tank 4: QDR Tank 5: EDR Tank 6: SC2 Tank 7: QDR Tank 8: HF Tank 9: EDR Tank 10: LPD Tank 12: ULD 2009 vintage.
DNS/DAINIPPON/SCREEN WS-820L是一个用于半导体制造工艺的湿式站,用于清洁和湿式加工应用。这座高性能湿式站采用先进的技术和特点设计,以满足半导体行业苛刻的要求。DNS WS-820L湿站的核心是其精确的控制设备,它可以对晶片进行精确和可重复的处理。该系统配备了先进的传感器和控制器,用于监测和调节温度、流量、化学浓度等关键参数,以确保一致可靠的结果。这种控制水平对于实现半导体制造的高工艺均匀性和质量至关重要。SCREEN WS-820L湿站的主要部件包括化学输送单元、晶圆处理机、工艺室和排气系统。化学品输送工具负责将加工化学品准确地溷合和输送到加工室。它配有泵、阀门和传感器,以控制化学品的流动并确保精确的剂量。湿站晶片处理资产WS-820L设计用于通过各种工艺步骤安全运输晶片。它包括机械臂、自动装卸机制等功能,以及高级晶圆映射功能,用于在加工室内精确定位晶圆。晶圆处理模型对于尽量减少晶圆在加工过程中的破损和污染至关重要。DAINIPPON WS-820L湿站的工艺室是为晶圆的清洁、冲洗、干燥等特定工艺步骤而设计的。这些腔室采用与各种工艺化学方法兼容的材料建造,旨在提供出色的耐化学性和均匀的流动分布。工艺室还配备了加热和冷却能力,以控制工艺解决方桉的温度。DNS/DAINIPPON/SCREEN WS-820L湿站的排气系统负责清除处理过程中产生的烟雾和化学蒸气,以维持安全的工作环境。排气系统装有洗涤器、过滤器和监测装置,用于捕获和中和有害气体,然后再释放到大气中。正确的排气设备设计对于遵守环境法规和确保操作员安全至关重要。除了核心组件外,DNS WS-820L湿式工作站还具有用户友好界面,使操作员能够轻松编程和监控流程参数。该系统配备了触摸屏显示屏、直观的软件和远程访问功能,以实现高效操作和故障排除。用户界面还提供有关流程性能和单元状态的实时反馈,以提高总体生产率。总体而言,SCREEN WS-820L湿站是半导体湿处理应用的前沿解决方桉。其先进的控制机器、精确的化学输送、坚固的晶圆操控以及高效的排气系统,使其成为大容量半导体制造设施的理想选择。通过提供一致和可靠的结果,WS-820L湿站可帮助半导体制造商实现更高的产量,改进过程控制,并提高产品质量。
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