二手 RENA Wetbench #9049830 待售

RENA湿工作台是一种实验室工作站，设计用于使用湿化学工艺安全处理晶圆和其他基板。它通常安装在带帽环境中,并配有一套专门的工具和设备,如湿式工作台、化学储罐、表面管理系统、FOUP系统和工作站。RENA湿板凳适用于湿条、光刻、蚀刻、清洁、化学机械平面化、沉积、钝化等多种工艺。由不锈钢建造，保证长期耐用。由于其环氧涂层的底座和侧面，较标准湿式长凳较不易腐蚀，更容易清洁。其底座设计为防漏，同时仍提供基本的稳定性。它还包括必要的公用事业，如架空不锈钢废气、水冲洗系统和地板排水沟。Wet Bench的主要特点是其扩展的工作表面，用于较大的基板和带有速效刮水器的晶片。它安装有可调节的PID系统,可帮助将温度和湿度保持在最佳水平。为保证操作一致，将工作面加热冷却至理想温度，让用户根据自己的具体工艺要求调整平均热传递速率。RENA Wet Bench还包括几个附加功能以提高其效率。例如，工作台设计有一个CMP溢流槽，将固体颗粒或"细"与工艺中使用的液体分离。这有助于保持工艺环境的清洁和尽量减少污染。此外，工作站还配备了若干控制装置，以监测确切的化学和工艺参数。这将污染晶片的可能性降至最低，从而降低生产延误和成品缺陷的风险。总之，湿板凳是一种在实验室环境中处理基材和晶片的高效、安全的解决方桉。其坚固的结构确保了耐用性,而其可调节的特性、温度控制和扩展的工作表面使其最适合于各种工艺。