二手 RENA Wetbench #9049832 待售

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製造商
RENA
模型
Wetbench
ID: 9049832
Wet bench, 4" 6" TiW H202 31%.
RENA湿式工作台是一种湿式工作台,其设计目的是为加工半导体晶片和其他相关材料制造工艺提供一个清洁、受控的环境。它通常用于湿蚀刻和清洁操作。湿式板凳由一系列封闭式不锈钢橱柜组成,具有受控环境.这些柜子分为三个部分:存储部分、加工部分和清洗站。储存部分包含湿蚀和清洁过程所需的化学品、液体和组件。加工部分装有处理设备,如化学罐、水泵、阀门和其他此类部件,以及必要的电气控制和通信系统。冲洗站用作处理部分的水径流汇,以及清洁和储存加工部件的场所。RENA Wet Bench的设计目的是创造一个无菌环境,使过程中的化学物质保持分离,同时仍然允许湿蚀刻和过程的每一步都以受控和有序的方式进行。这也有助于确保该过程不受污染。机柜还包含若干安全功能,如灭火系统、化学安全壳系统和紧急关闭阀,在紧急情况下可以启动。Wet Bench通常具有许多自动化组件,例如帮助实现流程自动化和跟踪的计算机界面,以及控制流程参数的监控系统。此外,它还可能具有各种过滤系统,如离子交换、超滤和反渗透,有助于确保所有工艺化学物质保持纯净和未受污染。这些过滤系统使得湿板凳能够提供一致的结果,具有可重复和准确的过程。总而言之,RENA湿板凳是用于半导体晶片制造和加工以及其他相关工艺的必不可少的设备。凭借其精确、一致和安全的特点,它确保组件、材料和工艺化学保持纯净、无污染和一致。
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