二手 RISE Wet bench #293736951 待售
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ID: 293736951
优质的: 2014
(2) Thermal chiller circulators
(2) 280L Sump tanks
(4) Drain pump
(2) Wasted chemical tanks
IPA Dryer
Inline heater
Quartz Tank
Megasonic transducer
Megasonic generator
Touch screen
Robot / Controller
H2O2 Spiking
Aluminum 80% plastic 20%
Power supply: 220 V, 50/60 Hz, 107.364 kVA
2014 vintage.
RISE湿式工作台,又称湿式工作台,是一种专门用于半导体制造和研究设施的实验室设备,用于需要化学处理和液体浸入半导体晶圆的湿工艺。"湿板凳"一词是指为湿化学加工而设计的实验室工作站,设有多种化学浴池和水箱,用于蚀刻、清洁和表面处理程序。RISE Wet bench是一款高级湿式加工设备,以其先进的特性和高性能着称。湿板凳配备坚固的不锈钢框架,提供结构稳定性和耐化学性,确保安全可靠的湿加工环境。该系统旨在处理广泛的工艺化学和应用,使其适合研究和生产环境。RISE湿式工作台通常配置有多个化学浴、冲洗池和干燥站,允许以受控方式进行顺序处理步骤。湿式台阶的一个关键特点是其先进的控制单元,它允许精确调节温度、流量和过程时间。该机器配备了最先进的传感器和监控设备,以确保一致和准确的过程结果。用户友好的界面使操作员能够轻松编程和监控过程参数,使其成为研发活动的理想工具。RISE Wet Bench旨在容纳多种工艺模块,包括湿蚀刻、晶圆清洗、表面处理和化学沉积。每个模块都可以轻松集成到工具中,从而在流程开发中实现灵活性和可扩展性。湿式工作台为每个工艺模块配备专用的化学管线和排气系统,确保工艺纯度,防止不同化学之间的交叉污染。RISE Wet Bench除了其先进的处理能力外,还在设计时考虑了操作员的安全。该资产配有安全联锁、紧急停机机制和化学泄漏遏制功能,以尽量减少发生事故和化学暴露的风险。湿式工作台的设计也符合化学处理和加工的行业标准和法规。RISE湿式板凳常用于半导体制造设施,广泛应用,包括硅片蚀刻、光刻层去除、晶片表面清洁、薄膜沉积等。该模型的高吞吐量能力和过程可重复性使其成为优化生产产量和确保高质量设备性能的重要工具。总体而言,Wet Bench是一种用途广泛且可靠的湿加工设备,它为各种半导体加工应用程序提供先进的功能、精确的控制和操作员安全。其强大的设计、灵活性和性能能力使其成为半导体研究和制造设施的重要工具,这些设施在湿式化学加工方面力求卓越。
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