二手 SCHMID 61 #9123406 待售
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ID: 9123406
优质的: 2008
Chemical etcher
PSG Etching plant
Wafer details thickness: 120 - 170 μm
Format (5 Lanes): 156 x 156 mm
Wafer distance: 15 mm
Working speed: 1.14 m/min
Ambient temperature: 0 to +55°C
Media list:
HCL Hydrochloric acid
HF Hydrofluoric acid
NAOH Sodium hydroxide
HNO3 Nitric acid
H2O Water
Power supply:
Operating voltage: 400 V, 50 Hz
Voltage supply: AC/DC 20-53 V, 48-63 Hz
AC: 110-240 V +10% / -15%, 48 -63 Hz
Electrical power consumption : 58 kW
Electrical current consumption: 128 A
2008 vintage.
SCHMID 61是一个湿式站，主要用于处理用于生产太阳能光伏（PV）系统的平板。设计用于清洁、蚀刻、激活平板基板表面，如铝、不锈钢、铜等。该系统利用化学溶剂、水溶液和电化学工艺有效处理面板表面。61湿站包括一系列的水箱、水泵和一个为生产最高效率而设计的输送机系统。在过程开始时,将一个面板放置在传送带上,该传送带沿一个轴进行传送带。当面板沿着输送机移动时，它穿过彼此相连的各种罐体。第一罐装有用于清洁面板的化学溶剂。使用喷射器和旋转刷子的组合，任何碎屑或杂质从面板表面除去。在第一个储罐后，用水溶液喷涂面板，以帮助清除残留的残留物。下一个罐体装有蚀刻溶液，用于进一步氧化基材。蚀刻过程有助于激活面板表面，使其准备用于光伏沉积。当面板从水箱中移出时，喷射器用清水冲洗，以确保不会残留蚀刻溶液。湿站的最后一站是电化学活化罐。在这个储罐中，一个电流通过基板，增加了材料的电导率。一旦面板完成湿站工艺，就可以快速运到光伏沉积站，涂上光伏材料保护层。SCHMID 61湿站确保面板正确准备沉积，以确保最终产品的最佳电气和材料性能。
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