二手 SES Caroz #293674866 待售

製造商
SES
模型
Caroz
ID: 293674866
晶圆大小: 12"
Wet etching machine, 12".
SES Caroz是为半导体制造工艺设计的最先进的湿式站。这种先进的设备在制造半导体器件方面起着至关重要的作用,它使硅晶片经过各种加工步骤后能够精确清洗、冲洗和干燥。Caroz湿站的工程和设计重点是实现高水平的清洁、微粒污染和工艺均匀性,以确保半导体器件的一致性和可靠性。SES Caroz湿站设有化学配药、清洁浴池、冲洗浴池、乾燥单元等多个製程模组,均整合为单一月台。每个模块都设计为在协同工作的同时执行特定任务,以提供完整的湿处理解决方桉。设备由先进的软件控制,允许可编程配方、实时监控和数据记录,以确保过程的重复性和可追踪性。Caroz湿站的一个关键特点是其精确的化学分配系统,使各种清洁剂和溶剂能够准确、控制地输送。这样可以确保晶片在进入下一个处理步骤之前得到有效的清洁和无污染物。该装置旨在处理半导体制造中使用的各种化学品,包括酸、碱和溶剂,能够根据工艺要求调整浓度和流速。SES Caroz湿站的清洁浴室设计用于通过浸入和搅拌去除晶圆表面的有机和无机残留物。浴室配有超声波传感器,以提高清洁效率,确保整个晶片表面的清洁均匀。机器能够根据工艺要求执行单个或多个清洁步骤,并具有为特定应用程序定制清洁配方的灵活性。冲洗是半导体晶片湿处理去除晶片表面残留清洁剂和污染物的关键步骤。卡罗兹湿站设有多个使用高纯度DI水的冲洗浴池,以确保彻底冲洗,最大限度减少颗粒污染。该工具允许可定制的冲洗循环,包括级联冲洗、喷雾冲洗和巨声冲洗,以达到所需的清洁水平。在SES Caroz湿站使用先进的干燥装置对晶片进行干燥,这些装置采用自旋干燥、热空气干燥和真空干燥等技术。这些干燥方法旨在去除晶圆表面多余的水,而不会造成损坏或污染。该资产允许使用可编程的干燥配方来优化不同类型晶圆和工艺的干燥时间、温度和气流。总体而言,Caroz湿站是半导体制造湿法加工的通用可靠工具,提供先进的能力来满足现代半导体器件的严格要求。其创新的设计、精确的控制和灵活性使其成为半导体制造过程中实现高产率和质量的必不可少的设备。
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