二手 TEL / TOKYO ELECTRON Expedius I #293824712 待售
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ID: 293824712
Wet bench
Mainframe
(6) Chambers
(4) POU modules: APM, HF, NH₄OH, HPM
(2) SD2 modules
Application: DHF/APM Cleaning.
TEL/TOKYO ELECTRON Expedius I是一个用于半导体制造工艺的最先进的湿式站。这种先进的设备通过提供精确和受控的晶圆湿化学加工,在制造集成电路和其他电子设备方面发挥着关键作用。TEL Expedius I湿式站由半导体生产设备领先供应商TEL制造,旨在满足半导体行业对高质量、高性能加工的严格要求。TOKYO ELECTRON Expedius I湿站采用模块化设计,允许灵活的配置和定制,以满足特定的工艺要求。设备由多个模块组成,包括化学加工罐、机器人、流体处理系统和控制单元,全部无缝集成,为半导体制造提供全面的湿处理解决方桉。Expedius I湿站的一个主要特点是其先进的机器人系统,它能够在整个处理步骤中对晶片进行精确的处理和操作。机械臂配备了先进的传感器和视觉系统,以确保晶片在工艺罐中的精确定位和对准,最大限度地降低污染风险,提高加工效率。湿站内设有多种化学製程罐,每个罐都是为特定的湿化学製程设计,例如清洁、蚀刻、沉积。这些储罐由高质量材料制成,耐腐蚀和污染,确保化学品的纯度和正在加工的晶片的完整性。这些储罐配有温度控制系统,以维持所需的工艺温度,并确保一致和可靠的处理结果。TEL/TOKYO ELECTRON EXPEDIUS I湿站还设有先进的流体处理系统,可在加工过程中精确控制化学流动和浓度。该装置包括泵类、阀类和过滤器,设计用于处理半导体制造中使用的各种化学品,同时确保化学品的均匀分配和溷合,以获得最佳处理结果。湿站由一个复杂的软件界面控制,为操作员提供实时监控和控制处理参数。用户友好的界面允许轻松编程过程配方、监控机器性能以及排除操作过程中可能出现的任何问题。该软件还包括高级数据记录和分析工具,使流程优化和质量控制能够确保一致和可重现的处理结果。最后,TEL Expedius I湿站是一个前沿设备,为半导体制造中的湿化学加工提供了一个全面的解决方桉。凭借先进的机器人技术、精密处理和先进的控制系统,湿站提供了满足半导体行业苛刻要求的高性能处理功能。TOKYO ELECTRON Expedius I湿式工作站专为灵活性、可靠性和效率而设计,是寻求在生产过程中实现高产量和卓越产品质量的半导体制造商的关键工具。
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