二手 TEL / TOKYO ELECTRON Expedius+ #293629293 待售

TEL/TOKYO ELECTRON Expedius+是一个先进的湿式站，为高复杂度工艺应用的精确控制提供了一个多合一的解决方桉。湿站结合了精确低压化学气相沉积（LPCVD）、化学机械抛光（CMP）和精密湿法处理能力。该单元可以处理高达200毫米（直径）和16毫米厚度的工件，确保了高度的精度和可重复性。湿站配有真空室，设计和建造的材料质量优越，确保最高性能和可靠性。特别设计的腔室能够对CMP工艺进行精确的控制，从而实现精确的蚀刻、高水平的表面平整度、平滑度和均匀性。它还实现了对CMP操作的卓越精确控制,最大限度地提高了工艺的质量和生产率。湿站还采用化学和电镀工艺相结合的方式，准确控制所有表面特征的均匀性。CMP和LPCVD过程在整个过程中都经过精确监控和管理,确保了产品的一致性和可重复性。湿法站还支持干法应用，提供先进的干法蚀刻功能。集成的高速主轴在抛光、研磨和存档的机械过程中提供了更好的控制和更高的生产率。屏幕上的图形显示所有正在运行的进程的结果,并能够查看过去的操作和设置以进一步优化。该站配备了包括压力、温度、湿度和液位在内的一系列传感器，为操作员提供准确反馈。TEL Expedius+提供可靠一致的环境,以确保在化学、机械和湿法加工过程中的最佳精度和可重复性。低压室、集成主轴和高效控制系统等功能使设备能够提高产品质量和产量,同时降低成本。这种多功能湿式站是精确控制高复杂度工艺应用的理想选择。