二手 TEL / TOKYO ELECTRON Expedius #293666975 待售

TEL / TOKYO ELECTRON Expedius
ID: 293666975
Wet bench.
TEL/TOKYO ELECTRON Expedius是一个设计用于半导体加工应用的湿式站。它是一种独一无二的先进单片加工设备,能够处理批量和连续过程。该系统设计用于处理长达六英寸的晶片,与300和200毫米晶片兼容。TEL Expedius湿式站由两个独立的、温度控制的湿浴组成,用于通过在浴池之间转移晶圆来执行一系列处理步骤。浴池是自动化的,可以编程为根据用户的要求进行一系列的处理步骤。浴池可加热至200 °C,两者均配有温度测量系统,确保整个过程温度一致。除湿浴外,湿站还包括一个内置的化学处理单元,负责化学储存和分配。这有助于降低材料成本和提高生产率。该站还能够处理危险化学品和非危险化学品,因此适合各种工艺应用。TOKYO ELECTRON Expedius旨在使晶圆加工过程自动化,提供令人印象深刻的质量控制水平。安装在湿式工作站上的高分辨率摄像机提供正在处理的晶片的实时图像。这台机器能够检测过程中可能发生的任何异常,并向用户发出警报,同时提供监测过程有效性的手段。它还包括重要的安全特性,例如防止污染周围环境或工序室的防溢漏工具。资产还包括先进的真空系统,以确保加工过程中的质量一致。真空模型保证了蚀刻过程中的均匀性,可以根据工艺要求提供不同程度的真空。此外,设备的内置负载锁定系统有助于将晶圆放置错误导致的过程故障降至最低。最后,Expedius湿站的设计考虑了可用性和可维护性.它的用户界面非常直观,易于操作,其模块化设计在必要时便于维护和维修。总体而言,TEL/TOKYO ELECTRON Expedius是一个先进的湿式站,设计用于各种半导体应用中的有效和可靠的晶圆处理。它提供了一个自动化和温度控制的处理环境,具有先进的图像识别和真空系统,以改进对过程的控制。此外,它的用户界面和模块化设计使它易于操作和维护。因此,TEL Expedius湿站是任何半导体加工应用的绝佳选择。
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