二手 TEL / TOKYO ELECTRON Expedius #293757165 待售
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ID: 293757165
晶圆大小: 12"
优质的: 2006
Wet bench, 12"
Process flow: CHCL-CWS-SD2(HF)-SD2(HF)-OF-LAL(HF17%)-HQDR-SC1-HQDR-SPM
2006 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Expedius是一种专门为半导体製造而设计的湿式工作台。它用于半导体净化室环境，在半导体净化室环境中，需要精确和可靠的环境控制，以最佳保护敏感盒式磁带和晶圆运载船免受微粒污染。湿式站设有精确可靠的机电集群，提供精确的温度、压力和速度控制，确保精确的对准、清洁和可靠。该站还包括一个湿清洁站（WCS），为晶圆的清洁和干燥提供一个安全、受控和统一的环境。WCS利用有机碱性清洁剂来精确控制清洁和干燥过程，而内置的干填充模块则确保晶圆的最佳干燥。集成高压清洗站在单一过程中进一步消除了高达3%的颗粒污染，同时提供了精确平衡的温度设置，以保证晶圆处理的一致性和一致性。TEL Expedius湿站还包括一个Graining Oven-Etcher and Photorest Treatment模块，该模块提供对口罩、抗蚀剂和其他加工剂的自动化、高效和一致的处理。该模块为精细蚀刻工艺提供精确的温度和压力设置，还配备了多种内部测试系统。蚀刻和光致抗蚀剂处理模块使晶片表面上的蚀刻溶液具有精确的均匀性，从而获得一致的高质量结果。集成的微气体喷射器通过精确注入特殊挥发性有机物质，进一步防止了工艺步骤中晶圆表面的污染。该站还提供自动、准确和预定的污染物限值，确保最大效率和可靠性。此外,它还提供了一个精确的数字气体喷射器控制器和气体分配系统,以提供一致的性能.最后，TOKYO ELECTRON Expedius湿站设有晶圆采集站（WAS），设计用于在超低温下以最小的污染安全转移样品或装置。WAS包含锁定机制和超低温（ULT）温度控制器,使工艺温度保持在-25°C以下的精确调节。最后，Expedius湿站为用户提供了一种高效、可靠、准确的清洗、蚀刻和处理晶片的方法。其精密的设计为用户提供了一种在清洁室环境中进行半导体器件处理的多合一方法，其用于污染预防、温度和压力控制的集成模块确保了性能的一致性。
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