二手 TEL / TOKYO ELECTRON Expedius #9038418 待售
网址复制成功！
单击可缩放
ID: 9038418
Wet benches, 12"
Basic config: Bath configuration: LD-FIMS-SPM-HQDR-SC1-HQDR-SC1-HQDR-FRD-FRD
Load/unload port: 2 (common)
Wafer size: 300 mm
Batch Size: 50 Wafer
Software: SECS2
Mecha: Motor, servo motor
(3) Robots
Chuck: Quartz
SPM Bath: Matrial Quartz
Heater: 6 kw
Filter: 30 nm
Chemical: H2SO4,H2O2
Wafer Guide: Quartz
QDR Btah: Material Quartz
Heater: None
Filter: None
Chemical: DIW.Hot DIW
Wafer Guide: Quartz
SC1 Bath: Material Quarz
Heater: 6 kw
Filter: 30 nm
Chemical: NH4OH,H2O2
Wafer guide: Quartz
HQDR Bath: Material Quartz
Heater: None
Filter: None
Chemical DIW/HOT DIW
FRD Bath: Material PVDF
Chemical IPA, DIW
Wafter Guide: PVDF
2006 vintage..
TEL/TOKYO ELECTRON Expedius是一个半导体製造与开发的湿站。它是处理小规模半导体元件和晶圆的通用、低成本的解决方桉。它设计用于低成本制造、薄膜沉积、光刻成像、蚀刻、化学气相沉积（CVD）和抗蚀剂加工等广泛应用。TEL Expedius使用强大的硬件平台和软件定义的控件来实现卓越的性能和吞吐量。TOKYO ELECTRON Expedius配备了用于精确晶圆处理的微米精度刀架、数字成像设备（DIS）、用于成像和计量的扫描电子显微镜（SEM）、用于快速图像扫描的FEM光学数字成像系统（ODIX）以及用于过程自动化的CORNERSTONE ONE过程控制数据管理单元。该机还包括高功率变频射频（RF）发电机、高功率热源、用于精密晶圆加工的高速精密X/Y运动台，以及精密粉末分配工具。该资产还具有用于流程控制、流程监控和流程优化的SDTM-2000流程自动化软件。该软件旨在通过允许用户监控和控制过程参数（如气体压力、气体流速和温度）来帮助实现最佳的整体模型性能,以确保从晶圆到晶圆的一致结果。Expedius还具有高级流程管理功能,如经过时间记录器、事件计数器和流程日志。这些功能允许精确的过程跟踪和优化。此外,该设备支持独立装卸样品,从而提高吞吐量并实现更高水平的自动化。TEL/TOKYO ELECTRON Expedius旨在满足半导体行业苛刻的要求，提供卓越的性能、精度、可重复性和可扩展性。它为小规模半导体元件和晶圆的加工提供了一个经济高效的解决方桉，是行业中任何湿式站应用的绝佳选择。
还没有评论