二手 TEL / TOKYO ELECTRON Expedius #9190110 待售
网址复制成功!
ID: 9190110
晶圆大小: 12"
优质的: 2006
Clean / Strip system, 12"
Processes: SC1 / SPM / BHF
Currently warehoused
2006 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Expedius是为光刻、蚀刻、薄膜、物理气相沉积等多种晶圆製造工艺而设计的湿式站。设计用于中小型生产,湿站非常适合加工各种基材如玻璃,铝,硅。它具有多托架设计,最多三个工艺室,包括一个工艺气柜和晶圆传输设备。晶圆传输系统采用序列化载波,安全可靠地传输晶圆。TEL Expedius湿站设有先进的温度控制单元,在规定的窗口内维持晶圆温度。温度、压力和时间等过程参数可以从一个通用的用户界面进行调整。可以将多个流程配方保存到工作站的内存中,使用户可以轻松回忆每个配方。使用精确的石英晶体传感器,可以自动进行过程压力校准,从而产生高度可重现的过程结果。TOKYO ELECTRON Expedius湿式站的设计考虑了整个过程的覆盖范围.其安全/环境功能包括柔性溅射室门、自动化学流速供应商和腔室疏散。还提供先进的化学管理机器。为了方便安全高效的操作,Expedius湿站提供了几个特点.一种组合头机器人工具提供了晶圆转移过程中颗粒污染的低概率。内置的粒子监控器和粒子密封资产可防止粒子到达晶圆的敏感区域。湿站还设有工业级机器人、自动手动喷嘴系统、灵活晶圆处理程序和高效机器人控制软件。为了获得卓越的工艺监控能力,TEL/TOKYO ELECTRON Expedius湿式测站包括一个集成的激光测量模型,在处理室内监控多个参数。数据记录器、传感器和集成报告设备也是该软件包的一部分。这些功能共同提供了完整、实时的流程控制和高效的流程调试。最后,TEL Expedius包含一系列高级功能,可确保可靠和可重现的结果。凭借其全面的安全/环境功能和过程监控能力,它提供了市场上最好的湿站解决方桉之一。
还没有评论