二手 TEL / TOKYO ELECTRON Expedius #9353546 待售
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ID: 9353546
晶圆大小: 12"
Wet bench, 12"
Process: APMA Rec-Clean
Load / Unload module:
Transfer module:
Tank SD2 (Dryer):
Guide material: PVDF
Process bath material: PTFE
Cold DIW: 40-60 l/min
POU:
Guide material: QUARTZ
Process bath material: QUARTZ
Temperature: 70°C
Mixing Ratio: HCL:H2O 1:240/1:500
Cold DIW: 40-60 l/min
Hot DIW: 40-60 l/min
Heater
CEH-480 Concentration monitor
SC1 (M/S):
Guide material: QUARTZ
Process bath material: PTFE
Temperature: 65°C
Mixing ratio: NH3OH:H2O2:H2O 1:4:130/1:1:125
Megasonic: SSDM 2800 W
Heater
YY5611203J Filter
HORIBA CS-131-0510 Concentration monitor
(2) QDR:
Guide material: PCTFE
Process bath material: QUARTZ
Cold CIW: 40-60 l/min
HF/EG:
Guide material: PCTFE
Process bath material: PTFE
Temperature: 65°C
Mixing Ratio: HF/EG
1:10: 65°C
1:50: 60°C
Cold DIW: 4
NSPH-55KML Pump
Chemical heater
QCCATX01 Filter, 0.1 µm
HORIBA CS-158-F1 Concentration monitor
BSG:
Guide material: PCTFE
Process bath material: PTFE
Temperature: 60°C
Mixing ratio: HF:H2SO4 1:5/1:30
NSPH-55KML Pump
Chemical heater
QCCATX01 Filter, 0.1 µm
HORIBA CS-133V Concentration monitor
2004-2005 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Expedius是一个湿式站，为晶圆製造、光刻和其他工艺的整合提供高效可靠的平台。该平台提供温度稳定性、过程控制和提高产量。它是一个配备了最新湿法和激光技术的多用户平台。它提供了一套全面的功能和创新，包括自动化模具装载，一个uprig遮蔽设备，以及一个改进的空气疏散系统。TEL Expedius Wet Station旨在提供一个稳定、机器级的平台，用于流程集成和性能优化。其开放式架构设计采用8轴运动单元和伺服驱动机器，以确保精确稳定的运动控制。其专有的驱动模式和重复算法旨在确保该站能快速平稳地达到稳态，同时最大限度地减少湍流。它还提供了一种先进的温度控制工具，在处理过程中确保湿平台上的温度均匀、恒定。TOKYO ELECTRON Expedius Wet Station配备了多种装卸机制，可与各种工艺工具快速轻松集成。其专门设计的气动设备和自动模具加载功能确保了快速、方便的设置。它还提供了一个先进的激光标记模型，提供极好的分辨率和准确性与最小的粘力。自动上架遮蔽设备便于在用户干预最少的情况下进行旋转涂层、蚀刻和烘烤等过程。此外,Expedius Wet Station旨在通过提供晶圆制造、光刻和其他工艺的集成方法,最大限度地提高工艺产量并降低成本。该站强大的报告能力允许对流程性能进行全面分析。其先进的过程控制系统确保了稳定和可重复的结果。此外，其先进的空气疏散装置确保减少空气中的颗粒污染。总之，TEL/TOKYO ELECTRON Expedius Wet Station是一个全面、多用户的平台，为过程集成和性能优化提供了一个稳定可靠的平台。该工作站的先进功能和创新确保了极佳的产量,并减少了用户的干预。其先进的工艺控制机器可确保重复和可靠的结果，同时其空气疏散工具可确保减少颗粒污染。总而言之，该站提供了一个可靠高效的平台，最大限度地提高工艺产量，并将成本降至最低。
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