二手 TEL / TOKYO ELECTRON Expedius #9353547 待售
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ID: 9353547
晶圆大小: 12"
优质的: 2006
Wet bench, 12"
Process: RECA Rec-clean
Load / Unload module:
Transfer module:
Tank SD2 (Dryer):
Guide material: PVDF
Process bath material: PTFE
Cold DIW: 40-60 l/min
POU:
Guide material: QUARTZ
Process bath material: QUARTZ
Temperature: 70°C
Mixing ratio: HCL:H2O, 1:500 / 1:1000
Proportion 1: HF:H2O, 1:500 / 1:1000
Cold DIW: 40-60 l/min
Hot DIW: 40-60 l/min
Heater
HF-960M Concentration monitor
SC1 (M/S):
Guide material: QUARTZ
Process bath material: PTFE
Temperature: 65°C
Mixing ratio: NH3OH:H2O2:H2O, 2:3:130
Megasonic: SSDM 2800 W
Heater
YY5611203J Filter
HORIBA CS-131-0510 Concentration monitor
(2) QDR:
Guide material: PCTFE
Process bath material: QUARTZ
Cold CIW: 40-60 l/min
HF/EG:
Guide material: PCTFE
Process bath material: PTFE
Temperature: 65°C
Mixing ratio: HF/EG
1:10: 65°C
1:50: 60°C
Cold CIW: 4
NSPH-55KML Pump
Chemical heater
QCCATX01 Filter, 0.1 µm
HORIBA CS-158-F1 Concentration monitor
BSG:
Guide material: PCTFE
Process bath material: PTFE
Temperature: 60°C
Mixing ratio: HF/H2S04, 1:5 / 1:30
NSPH-55KML Pump
Chemical heater
QCCATX01 Filter, 0.1 µm
HORIBA CS-133 V Concentration monitor
2006 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Expedius是由TEL Limited（TOKYO ELECTRON）开发的优越湿站设备。它旨在最大限度地提高半导体器件制造商的技术兼容性、自动化、灵活性和吞吐量。TEL Expedius湿站系统为半导体行业提供集成的全自动处理技术，使其成为蚀刻、清洁和其他相关工艺最先进的系统之一。该单元与标准的TEL/TOKYO ELECTRON蚀刻、条带和沉积技术兼容，此外还有一系列集成蚀刻/条带和沉积/条带技术，TOKYO ELECTRON Expedius湿站的设置包括一个腔室、一个旋转头和一个全自动机械臂，全部装在耐用的不锈钢外壳内。该室具有超高温性能，为蚀刻工艺提供了统一的环境。此外，该腔室有专利旋风设计，使机器能够绘制、收集和过滤制造过程中产生的粒子和碎片。机械臂由触摸屏界面控制，提供定位精度、均匀蚀刻深度以及保证产品特性一致的均匀环境。机械臂可用于湿蚀刻和清洁过程，包括一系列蚀刻/试纸和沉积/试纸操作。Expedius湿站还具有动态界面,可与生产组件进行通信,并便于过程监控和生产数据记录。这样就可以跟踪流程以确保质量和不断改进。此外，接口还设有连接多个TEL/TOKYO ELECTRON Expedius湿站的连接器，以提高吞吐量。总体而言，TEL Expedius湿站工具是半导体器件制造中蚀刻、清洁等相关工艺的先进解决方桉。TOKYO ELECTRON Expedius具有高温兼容性、旋风室设计、机械臂、动态接口等无与伦比的特性,并提高了吞吐量能力,为设备制造商提供了卓越的工艺性能和效率。
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