二手 TEL / TOKYO ELECTRON Expedius #9353549 待售
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ID: 9353549
晶圆大小: 12"
优质的: 2005
Wet bench, 12"
Process: SPMC PR-Strip
Load / Unload module:
Transfer module:
Tank SD2 (Dryer):
Guide material: PCTFE
Process bath material: PTFE
Cold DIW: 40-60 l/min
POU (M/S):
Guide material: QUARTZ
Process bath material: PTFE
Temperature: 70°C
Mixing ratio: HCL:H2O, 1:500
Proportion 1: NHO3H:F2O2:H2O, 2:3:100 / 1:4:130
Proportion 2: HCL:H2O, 1:240 / 1:500
Megasonic: SSDM 2800 W
Cold DIW: 40-60 l/min
Hot DIW: 40-60 l/min
Heater
HF-960M Concentration monitor
SC1 (M/S):
Guide material: QUARTZ
Process bath material: PTFE
Temperature: 35°C
Mixing ratio: NH3OH:H2O2:H2O, 1:4:20
Megasonic: SSDM 2800 W
IWAKI FW-40-T Pump
AIH-124QS CS Heater with WJ
QCVZ-ATM-TS Filter, 0.05 µm
HORIBA CS-131-0510 Concentration monitor
HQDR:
Guide material: PCTFE
Process bath material: PTFE
Temperature: 65°C
Cold DIW: 40-60 l/min
Hot DIW: 40-60 l/min
SPM:
Guide material: QUARTZ
Process bath material: QUARTZ
Temperature: 110°C
Mixing ratio: H2SO4:H2O, 5:1
Cold CIW: 40-60 l/min
NSPH-55KML Pump
COOLNICS AIH-64QS Heater
(2) LDFHTIGPK16E72-K7 Filters, 0.2 µm
HORIBA CS-150 Concentration monitor
2005 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Expedius是一个湿式站，设计用于服务薄膜半导体器件。该站由一个工具基座、晶片级、冲洗站、转移模块、过程模块和机器人臂组成。工具基座是为同时处理多种基板而构建的定位平台，允许湿工艺模块和冲洗模块方便准确的转移和放置。底座由固定主体、滚筒和X-Y运动平台组成，用于工艺模块的对齐。晶片级是一块专门的金属板，用来容纳一个晶片，单个双面胶带贴在站台底部。此板易于放置在刀具底座上,以便轻松访问工具库的流程模块。冲洗站是一个联合灭菌和干燥站，旨在快速有效地清洁和干燥半导体器件。该站采用去离子水、先进系统解决方桉和热半干空气相结合的方式进行清洁。传输模块包括托盘系统（PS）和工艺精密传输室（PPTC）。PS允许晶圆精确传输到转运站，在那里PPTC可以精确控制晶圆的XYZ坐标，以最大程度地减少处理任务的位置变化。工艺模块由UV Exposure head、Gold or Chromium Sputter工具、Evaporation工具和Wet Process Chamber组合而成，在半导体表面上创建超细结构。所有这些模块都连接到刀具底座和晶片级，使得晶片的处理更加容易和精确。最后，机器人手臂是一种三轴机器人手臂，用于在工作站的工艺模块上精确快速地旋转、移动和沉降晶片。手臂还可以将晶片从一种基材运输到另一种基材，以便于对准和放置。TEL Expedius旨在为基于薄膜的半导体器件提供准确高效的处理。该站可以一次处理多个晶片，允许高吞吐量的结果。此外，其专门的冲洗站、转移模块以及加工模块和机器人臂提供了精确和优化的处理结果。
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